Occasion FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Polaris 2000 #9167965 à vendre en France

FSI/TOKYO ELECTRON FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Polaris 2000 est un outil de photolithographie haut de gamme utilisé dans la fabrication de semi-conducteurs et de circuits intégrés. Il permet aux utilisateurs de créer des circuits précis sur des composants de circuits intégrés. Le système dispose d'une lentille de projection haute résolution, d'un pas à grande vitesse, d'une source laser à quartz et d'une unité d'exposition automatisée propriétaire. La machine est capable de résolution sous-micron tout en obtenant un rendement élevé et une productivité accrue. L'optique supérieure permet l'imagerie directe de plus petites caractéristiques sans avoir besoin de composants supplémentaires. L'outil comprend un outil sophistiqué de contrôle de la distance focale, qui permet aux utilisateurs d'atteindre des niveaux optimaux de précision lors de la création de modèles complexes. Le FSI Polaris 2000 est doté de moteurs pas à pas de précision et à grande vitesse, ce qui permet à l'utilisateur de sélectionner les paramètres d'exposition qui donnent les meilleurs résultats. Le modèle supporte à la fois les procédés de pulvérisation et de revêtement par spin pour fournir une épaisseur de couche précise dans le processus de fabrication. L'équipement comprend également une source laser à quartz qui offre des microfocus supérieurs et des performances d'exposition élevées. Le système d'exposition automatisé exclusif administré par TEL Polaris 2000 est conçu pour réduire le temps d'exposition et maximiser le rendement. L'unité d'exposition automatisée utilise des algorithmes avancés pour déterminer les paramètres d'exposition optimaux pour un substrat donné. La machine s'ajuste également automatiquement pour les variables dépendantes du processus et tient compte de la dérive des paramètres de l'outil au fil du temps. L'actif comprend une interface tactile intuitive pour un fonctionnement facile. TOKYO ELECTRON Polaris 2000 dispose d'une large plage de fonctionnement, permettant aux utilisateurs de créer des fonctionnalités d'une taille allant jusqu'à 0,1 micron. Le modèle est conçu pour s'adapter à des espaces serrés, et est disponible dans une variété de configurations pour convenir à différentes configurations de la boîte de travail. L'équipement est compatible avec une large gamme de matériaux photorésistants et peut être utilisé avec des systèmes thermiques et non thermiques. Polaris 2000 est un système de photolithographie avancé adapté à une grande variété d'applications de semi-conducteurs et de circuits intégrés. Sa lentille de projection haute résolution, son pas à grande vitesse, sa source laser à quartz et son unité d'exposition automatisée fournissent aux utilisateurs la précision, la vitesse et le rendement dont ils ont besoin pour exceller dans leurs industries respectives.