Occasion FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Polaris 2000 #9278707 à vendre en France

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Polaris 2000 est un équipement de photorésistance conçu pour soutenir la fabrication d'une grande variété de dispositifs. Le système utilise un composé chimique liquide, appelé photorésist, qui subit une réaction lorsqu'il est éclairé par la lumière. La lumière expose sélectivement le matériau de la résine photosensible permettant de réaliser le modelage de la couche de résine photosensible à l'aide d'un faisceau lumineux commandé par ordinateur. FSI Polaris 2000 est un outil d'exposition aux ultraviolets qui convient à la production de myriades de conceptions en termes de précision. Cette unité est un choix idéal pour réaliser tout type de dispositif microélectronique et a une performance de lithographie avec une sortie laser ultraviolet jusqu'à 300 mW/cm ². L'outil est équipé de capacités de commande avancées, y compris un véritable étage de plaquette interne bidimensionnel, un étage Z, un étage de rotation, une exposition automatique ou manuelle, et une unité de contrôle de l'humidité. La machine est également équipée d'une variété de fonctions de contrôle automatisé de processus, y compris un outil de champ sombre, divers types de techniques de développement de focus, de contrôle d'épaisseur de film, et de contrôle amélioré de processus. TEL Polaris 2000 peut également être utilisé comme un outil graduel offrant de la flexibilité lors de la mise au point d'un modèle utilisant cette approche additive photorésistante. Cet atout permet la génération de motifs multiples utilisant une seule plaquette masquée et la fixation de précision d'un large éventail de substrats et de géométries de dispositifs. La fonction d'auto-alignement intégré de l'outil permet une plus grande précision et l'alignement de plusieurs couches sur une seule plaquette. Quand il s'agit de maintenir des conditions de travail optimales pour un modèle photorésist, Polaris 2000 offre une gamme de fonctions de contrôle environnemental. Cet équipement dispose d'un système de filtre intégré pour le contrôle de l'humidité et de la température, ainsi que d'une table d'isolation des vibrations intégrée qui réduit l'influence des conditions extérieures sur le processus. Pour maximiser la fiabilité du processus de développement des photorésistances, TOKYO ELECTRON Polaris 2000 dispose également d'une unité de surveillance de la puissance de sortie constante, ainsi que d'une machine intégrée de surveillance du rapport de focalisation. En conclusion, FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Polaris 2000 de FSI est un outil de photorésistance avancé conçu pour soutenir la fabrication d'une grande variété de dispositifs. L'actif est équipé de capacités de contrôle avancées pour des performances de lithographie polyvalentes tout en disposant de caractéristiques de contrôle environnemental suffisantes pour des conditions de travail optimales. Ce modèle peut être utilisé comme un outil pas à pas offrant flexibilité et précision lors du développement d'un motif, et est idéal pour tout type de dispositif microélectronique.