Occasion FSI / TEL / TOKYO ELECTRON PVDF Turntable for Mercury MP #9384393 à vendre en France

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON PVDF Turntable for Mercury MP est un équipement spécialisé conçu pour le traitement des photorésistances. La photorésist est un matériau liquide qui peut se former en divers motifs lorsqu'il est exposé à la lumière et développé. Il est largement utilisé pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs, d'afficheurs et de composants microélectroniques. FSI PVDF Turntable for Mercury MP est un équipement robuste conçu pour fournir des résultats fiables et cohérents. Il est en plastique PVDF (fluorure de polyvinylidène) qui est lié atomiquement et offre des propriétés supérieures de résistance à la chaleur et de non mouillage pendant le traitement. La table tournante est équipée d'une gamme de caractéristiques dont une broche amovible statiquement équilibrée, qui permet une application et un traitement précis des résines photosensibles, ainsi que des broches de charge et de déchargement intégrées qui supportent une gamme de tailles de plaquettes allant jusqu'à 8 pouces. En outre, il est équipé d'une pince cinématique de sécurité qui assure un positionnement correct de la plaquette dans le plateau. Le système d'application photorésist offre une excellente uniformité et est conçu pour assurer un mélange précis des matériaux, résultant en des processus cohérents et reproductibles grâce à sa technique Pulse Break. TEL PVDF Turntable for Mercury MP comprend également un régulateur de température multi-points sophistiqué qui permet une gestion thermique délicate. TOKYO ELECTRON PVDF Turntable for Mercury MP est également équipé d'une machine de chargement et de déchargement unique qui peut être facilement changé pour correspondre à la taille ou le type de plaquette. Le thermostat intégré assure que la température de la plaquette est maintenue à un niveau optimal pour une application et un traitement précis de la résine photosensible. PVDF Turntable for Mercury MP est un excellent choix pour l'application et le traitement de la résine photosensible. Il offre une précision et une cohérence sans précédent, même dans des environnements extrêmes. De ce fait, il est devenu une composante essentielle du processus de production de photorésist.