Occasion FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Reflex #293662028 à vendre en France

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON L'équipement de photorésistance reflex est un système de photolithographie avancé conçu pour permettre le traitement de motifs à haute résolution sur des plaquettes semi-conductrices. L'unité utilise des optiques complexes et des conceptions de lentilles avancées pour obtenir une imagerie haute résolution des plaquettes semi-conductrices. La machine FSI Reflex utilise un illuminateur multi-longueurs d'onde pour fournir un éclairage uniforme et précis de la surface de la plaquette. L'outil est capable d'éclairer la surface de la plaquette avec plusieurs longueurs d'onde simultanément, permettant des expositions photolithographiques de plusieurs couches simultanément. L'illuminateur est équipé de filtres pour permettre un éclairage sélectif des différentes couches de résine photosensible. TEL Reflex est équipé d'un scanner laser qui permet une imagerie haute résolution de la surface de la plaquette. Le scanner laser est capable de scanner la surface de la plaquette à une vitesse extrêmement élevée. Le modèle est capable de scanner une surface carrée de 3,7 mm x 3,7 mm à raison de 8 000 scans par seconde, et une surface carrée de 8 mm x 8 mm à raison de 1 scan par seconde. TOKYO ELECTRON L'équipement Reflex est également équipé d'un contrôleur système intégré qui permet une manipulation précise des paramètres de l'unité. Le contrôleur est capable de contrôler les paramètres de la machine du scanner laser, de l'illuminateur et des filtres d'éclairage. Le contrôleur est également capable de contrôler l'épaisseur de la couche de résine photosensible et la réflectivité de la plaquette. L'outil Reflex est compatible avec une gamme de matériaux photorésistants avancés, y compris l'i-line, les UV profonds et les rayons X. L'actif est capable de traiter une gamme de motifs de photorésistance, y compris des motifs de ligne et d'espace, des trous de contact et plusieurs autres géométries de motifs. Le modèle est également capable de traiter des motifs photorésistants multicouches, tels que des couches diélectriques intercouches. FSI/TEL/TOKYO ELECTRON L'équipement reflex est simple à utiliser et à entretenir. Le système est autonome et nécessite un entretien minimal. L'unité est capable de contrôler automatiquement les niveaux de température et d'humidité pour garantir des performances optimales. Les utilisateurs peuvent facilement modifier les paramètres et les réglages de la machine en utilisant le contrôleur d'outils intégré. FSI Reflex asset est un modèle de photolithographie avancé conçu pour permettre le traitement de motifs à haute résolution sur des plaquettes semi-conductrices. L'équipement utilise un illuminateur multi-longueurs d'onde, un scanner laser et un contrôleur système intégré pour réaliser une imagerie haute résolution de la surface de la plaquette. L'unité est capable de contrôler automatiquement les niveaux de température et d'humidité pour garantir des performances optimales. Les utilisateurs peuvent facilement modifier les paramètres et les réglages de la machine en utilisant le contrôleur d'outils intégré. L'actif est compatible avec une gamme de matériaux photorésistants avancés et fournit un moyen simple et efficace de traiter les motifs photorésistants multicouches.