Occasion FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Zeta 200 #293640583 à vendre en France

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Zeta 200 est un équipement de photorésistance spécialisé conçu pour des applications avancées de photolithographie. Il simplifie le processus de photo-lithographie, dans lequel un matériau sensible à la lumière est utilisé pour créer des motifs sur un substrat. Le système est capable de hauts niveaux de précision et de résolution, jusqu'à 4 μ m. L'unité a une large gamme de la couverture de longueur d'onde d'exposition de 350 nm à 450 nm, et il peut également fonctionner sous ultraviolet UV-FEL ou HeNe-laser sources d'irradiation. Il dispose de multiples tailles de masques et d'un choix de matériaux, tels que le quartz ou les masques de silice fondus. La machine comprend un pré-alignement avancé avec un outil d'auto-détection haute résolution très efficace qui comprend une fonction d'auto-correction. Cet actif détecte automatiquement l'emplacement du substrat et le motif, puis aligne précisément le substrat afin de minimiser les erreurs dues au décalage de masque ou au changement de focalisation. Le FSI Zeta 200 est doté d'une fonction WSFA (Integrated Model-wide Focus Adjustment) qui permet de réaliser rapidement et précisément des analyses lithographiques. Le matériau photorésist est chargé dans TEL Zeta 200 à partir de cassettes, et l'état d'utilisation est suivi par un équipement de contrôle en ligne et hors ligne. Une fonction de recharge rapide permet à l'utilisateur d'optimiser l'efficacité de la chambre sombre. Pour la photolithographie haute résolution, le système dispose d'une fonction SE avancée (accélération sous-résolution) et d'une fonction de compression de données JPEG-2000. SE permet le fait de modeler rapide sur le substrate avec la largeur de la ligne basse et le plus haut débit et la compression de données JPEG-2000 soutient de grandes données de dessin avec la haute qualité uniforme. Le Zeta 200 est conçu pour fournir une structure efficace, précise et haute résolution avec un flux de travail très productif. Grâce à sa conception d'unité robuste, à son contrôle de l'imagerie et de la mise au point, et à son fonctionnement convivial, la machine est idéale pour les applications de lithographie à base de photorésistance.