Occasion FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Zeta 200 #293798027 à vendre en France

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Zeta 200 est un équipement photorésist de pointe conçu pour créer rapidement des structures de micro-circuits uniformes au sein de photomasques très précis. Avec une fonction de balayage laser haute résolution, ce système est capable de convertir des données complexes en structures de circuits physiques, ce qui en fait un choix idéal pour de multiples applications de lithographie. Il utilise une nouvelle unité laser-optique capable de produire des motifs de circuit au niveau du nanomètre avec une précision répétée et une faible distorsion. Sa machine optique à architectures ouvertes unique offre une flexibilité sans précédent, permettant une utilisation dans diverses conditions d'éclairage, permettant un haut débit de production. Le FSI Zeta 200 dispose d'un outil de refroidissement spécialement conçu pour optimiser les performances d'impression, en utilisant de l'air pour réduire les émissions thermiques et de colonne afin d'améliorer la stabilité. Ses systèmes avancés de gestion des données prennent en charge plusieurs paramètres utilisateurs, avec une sortie d'image topographique restaurable, permettant une fabrication multi-périphériques efficace. Le photomasque produit par TEL Zeta 200 dispose d'un puissant atout EDVAS, offrant une excellente précision de motif, un alignement robuste et un contrôle fiable du processus de fabrication des masques. De plus, ce modèle est équipé d'un nouveau niveau de conception assistée par ordinateur (CAO), de correction de photomasque et d'évaluation de l'impression arrière. L'équipement permet de simuler plusieurs paramètres pour déterminer avec précision les critères de résistance, le meilleur temps d'exposition et d'autres paramètres. Zeta 200 est le fondement d'un procédé de photorésistance très fiable et efficace. Ses composants clés comprennent un système optique robuste, un EDVAS puissant et une unité de refroidissement avancée pour assurer une précision et des performances maximales. Grâce à une combinaison unique de technologies, cette machine est capable de produire des micro-circuits très précis en un temps d'exécution court. Sa combinaison de précision de répétition, de débit élevé et d'évolutivité en fait un excellent choix pour une grande variété d'applications avancées de lithographie.