Occasion FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Zeta 300 G3 #293600193 à vendre en France

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Zeta 300 G3 Le matériel de photorésistance est un outil de photolithographie avancé qui est utilisé dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs et d'autres produits électroniques. Le système se compose d'une table de travail, d'un étage réticulaire photomasque, d'une tête de lithographie, d'un pulvérisateur de résine photosensible et d'un contrôleur. La table de travail fournit une plate-forme stable pour les autres composants et est utilisée pour l'ensemble de l'espaceur, l'emplacement des plaquettes et les opérations de déchargement. La tête de lithographie est un étage motorisé biaxial à quatre axes, capable de fournir une grande précision et répétabilité sur une large gamme de vitesses d'accélération et de course. L'étage réticulaire photomasque est un étage de balayage XY de précision et utilise des capteurs haute résolution et haute précision pour fournir un retour de positionnement précis. Le pulvérisateur de résine photosensible est utilisé pour un revêtement uniforme de la surface de la plaquette. Le contrôleur assure le fonctionnement de l'unité, effectuant des calculs pour maintenir les paramètres d'exposition nécessaires à la caméra, contrôlant le mouvement de la tête de lithographie et de l'étage réticulaire, et interfacant avec la force motrice externe. FSI Zeta 300 G3 Photoresist machine est conçu pour la production de wafers à haute résolution et à haut débit. Il est capable de traiter des substrats jusqu'à 150 mm de diamètre, avec une taille minimale de 2,5 µm. L'outil utilise des technologies de pointe telles que la mesure de distance avancée (SMA), le contrôle d'expiration des photorésistances en boucle fermée et les fonctionnalités de fonctionnement à distance à faible dérive. Il comprend également un actif breveté de maintenance automatique de l'optique, qui garantit que l'optique est sûre et fonctionnelle. Le modèle TEL Zeta 300 G3 Photoresist offre une haute performance, précision et intégration de plusieurs systèmes, ce qui entraîne une augmentation du rendement et une réduction du temps de cycle dans le processus de fabrication. Il est également compatible avec une large gamme de produits chimiques, de photomasques et d'instruments à faisceau d'électrons.