Occasion FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Zeta 300 G3 #9181244 à vendre en France

ID: 9181244
Taille de la plaquette: 12"
Spray cleaning systems, 12" Canister consoles: (6) Canisters, PTFE neck, No DVs (2) 4-Position PVC-C consoles Burst element caps H2S04 Aspirator kit, 1/4" (6) MYKROLIS Filters, QCDZ30P3F (2) Chemical samplings / Shutoff boxes MYKROLIS Filter WDFVATX2F (2) CC Drip-trays (5) 3/8" and (1) 1/2" CC Tubing, 10m MHM: STABULI TX90cr Cassette handler Powder coated facade assembly (4) PFA/Ti Wafer carriers, 12", 25-slots (4) ASYST Load ports 0.07 Micron PTFE ULPA filters BROOKS Wafer handler and controller Fluid delivery module (PVC-C): (5) 30-300cc Flow meters and operators 500-900cc Flow meter and operator TREBOR 480V, 60kW Quartz DI heater Process module: HALAR cabinet 5-Port side bowl spray posts (3) PTFE Drain valves (3) PFA P-Traps 2-Position 12" PFA turntable 6-Valve chemical mixing block Turntable hoist assy Hot and cold rotary union (2) Processes and cabinet exhaust damper IR Heater with bypass ViPR Hardware included Operation and maintenance manuals Digital versions 2008-2009 vintage.
FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Zeta 300 G3 est un équipement de photorésistance conçu pour la précision et la lithographie répétable pour des applications nécessitant des détails fins dans la fabrication microélectronique, biomédicale et optique. Ce système est équipé de capacités de lithographie avancées telles que les fonctions de pas, de balayage et d'alignement des puces de flip, et utilise la dernière technologie d'électrolyte. FSI Zeta 300 G3 est une unité i-line avancée qui permet à l'utilisateur de fabriquer diverses configurations avec un temps de processus réduit et des résultats exceptionnels. La photorésistance TEL Zeta 300 G3 combine des technologies d'imagerie haute vitesse traitées et des technologies de lithographie avancées uniques pour fournir des images haute définition sans distorsion. Il offre un processus d'imagerie optimal et des capacités d'imagerie haute résolution qui peuvent produire de petites structures telles que des lignes et des espaces de moins de 100nm. Il dispose également de fonctions d'alignement de pas, de balayage et de flip chip pour un positionnement précis sur les substrats de production. TOKYO ELECTRON Zeta 300 G3 utilise une solution d'électrolyte pour éliminer les contaminations du film de résine, puis applique la solution de résine sur la surface du substrat. Cela garantit le plus haut niveau de contrôle de distorsion et élimine la nécessité de multiples passes. Un liant est également appliqué sur la surface du substrat pour améliorer les résultats de lithographie et réduire les temps de processus. L'outil est également équipé d'un objectif de focalisation variable qui peut ajuster le foyer pour améliorer la résolution et le contraste des images. En outre, Zeta 300 G3 est équipé d'une section d'accord des sources qui permet à l'utilisateur d'ajuster l'intensité et la résolution de la source d'exposition. Cette fonctionnalité permet à l'utilisateur d'ajuster la dose d'exposition sans modifier les conditions de traitement de la résistance. De plus, le FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Zeta 300 G3 peut être configuré de manière à pouvoir être étalonné automatiquement selon les caractéristiques spécifiques d'un utilisateur. Dans l'ensemble, le FSI Zeta 300 G3 est un actif photorésistant qui possède de nombreuses fonctionnalités avancées, y compris des fonctions de pas, de balayage et d'alignement des puces. Il dispose également d'une solution électrolytique unique pour assurer le plus haut niveau de contrôle de distorsion, ainsi que d'une lentille de focalisation variable et d'une section d'accord de source pour une précision maximale des images. En conséquence, TEL Zeta 300 G3 est l'outil parfait pour toute fabrication microélectronique, biomédicale ou optique avec un besoin de balisage précis.
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