Occasion FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Zeta 300 G3 #9397351 à vendre en France

L'équipement de photorésistance FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Zeta 300 G3 est un outil de production automatisé de pointe conçu pour faciliter la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. FSI Zeta 300 G3 dispose d'un pas haute résolution de 10 microns avec de multiples options d'alignement et un système de pellicules multicouches pour la photolithographie avancée. L'unité de photorésistance est capable de produire des motifs complexes rapidement et avec une grande précision. TEL Zeta 300 G3 est équipé d'une lentille très précise qui se double d'un microscope et d'une plate-forme de sortie. Cela permet à l'utilisateur de visualiser et manipuler facilement la résine photosensible traitée. La machine comprend également un outil de transfert automatique de cassette à cassette, permettant aux utilisateurs de charger et décharger des circuits rapidement et précisément. Zeta 300 G3 offre une résolution supérieure pour produire des caractéristiques submicroniques mesurées en nanomètres. L'actif utilise plusieurs paramètres de longueur d'onde et de polarisation pour assurer un positionnement et une réplication précis des motifs de masque résistants. L'intérieur de la chambre est purgé avec un haut degré de contrôle de l'oxygène pour un traitement de résistance propre et efficace. Le modèle avancé de pellicules multicouches de TOKYO ELECTRON Zeta 300 G3 permet un dépôt régulier et précis des couches de résine photosensible. L'obturateur interne est commandé électroniquement, ce qui permet un débit et une précision élevés dans le processus de photolithographie. Les modèles de modèles peuvent être facilement importés dans l'équipement grâce à une sélection de logiciels de CAO, ou ils peuvent être générés en interne. FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Zeta 300 G3 est une véritable centrale de traitement photorésistante. Ses systèmes avancés d'imagerie et d'alignement offrent une précision inégalée, tandis que son système pelliculaire assure un dépôt uniforme des couches de résistance. L'unité peut traiter rapidement des motifs complexes avec la plus grande précision, permettant une production efficace de dispositifs semi-conducteurs.