Occasion FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Zeta 300 #9140979 à vendre en France

Il semble que cet article a déjà été vendu. Consultez les produits similaires ci-dessous ou contactez-nous et notre équipe expérimentée le trouvera pour vous.

ID: 9140979
Taille de la plaquette: 12"
Spray cleaning systems, 12" Process: PLAD strip/ CLN 2009-2010 vintage.
FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Zeta 300 Photoresist Equipment est un système de gravure de résistance de haute précision qui peut produire des motifs précis pour créer des photomasques complexes. L'unité est équipée d'une machine de commande avancée qui peut contrôler chaque étape du processus de gravure, de la préparation de l'échantillon à la disposition finale du masque. Il dispose d'un diffuseur de résistance puissant, qui utilise des jets impairs pour étaler uniformément la résine photosensible sur la surface d'un substrat. Il dispose également d'un outil de contrôle de l'exposition incrémentale, qui permet une exposition répétable du substrat à différentes longueurs d'onde de la lumière pour assurer un traitement précis. L'actif comprend également un analyseur d'image intégré, qui peut mesurer la taille, la forme et la limite du motif gravé sur le substrat. Cela permet un contrôle précis du processus de gravure pour produire des motifs précis pour les photomasques finaux. Le modèle peut graver à la fois la résistance positive et négative par l'utilisation d'un spray de résistance positive et d'un spray de résistance négative, respectivement. En outre, l'équipement peut appliquer une variété de traitements post-gravure, tels que surenchère, cendre et cuisson pour améliorer le cycle de vie et la stabilité du substrat. FSI Zeta 300 Photoresist System est conçu pour une utilisation dans l'industrie des semi-conducteurs en raison de son haut degré de précision et de précision. Ses performances supérieures et son large éventail de caractéristiques le rendent idéal pour produire des photomasques avec des caractéristiques et des formes bien définies. L'unité a également un débit élevé, permettant une production plus rapide de photomasques. De plus, sa compatibilité chimique permet d'utiliser une large gamme de matériaux photorésistants. En outre, son interface conviviale permet une configuration et un fonctionnement faciles de la machine, et le haut niveau d'automatisation permet aux opérateurs de produire plus facilement des motifs reproductibles de haute précision.
Il n'y a pas encore de critiques