Occasion FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Zeta 300 #9149325 à vendre en France

FSI/TOYKO ELECTRON FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Zeta 300 est un système de photorésistance spécialisé dans le revêtement antireflet (AR) des composants optiques. FSI Zeta 300 est spécifiquement conçu pour aider à optimiser les caractéristiques de la couche AR et diminuer toute visibilité des revêtements sous elle. TEL Zeta 300 utilise un procédé de revêtement photorésist en deux parties connu sous le nom de PR (résistance post-exposition), qui implique un procédé d'amorçage spécial ainsi que de résister à la cuisson. Pendant le processus d'amorçage, une forme spéciale de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) est utilisée pour créer une couche mince de matériau carboné qui agit comme une barrière aux molécules de vapeur des produits chimiques du processus. Cela permet d'assurer une uniformité optimale du revêtement choisi. Le procédé de cuisson à la résine suit l'amorçage et est utilisé pour contrôler les caractéristiques d'épaisseur et d'adhérence de la couche PR. Ce procédé utilise un laser infrarouge à une longueur d'onde de 10,6 microns, ce qui fait chauffer le matériau résineux et former un « masque de gravure » sur la surface optique. Cette étape permet d'éviter tout effet indésirable au cours du processus de revêtement résultant d'une mauvaise adhérence de la couche de PR. TOKYO ELECTRON Zeta 300 intègre également une fonction unique de R&D (réflexion et diffusion) qui évalue les performances optiques de la couche PR. Cette fonctionnalité permet à l'utilisateur d'ajuster les niveaux d'absorption du revêtement sélectionné, assurant des niveaux optimaux de réflexion lumineuse et des capacités de diffusion. Enfin, le Zeta 300 est également équipé de systèmes de stéréo-lithographie automatisés, qui permettent une imagerie 3D précise des matériaux optiques. Ce type d'imagerie permet d'identifier et de corriger les imperfections de surface qui pourraient autrement modifier la performance du revêtement AR. La combinaison de ces caractéristiques, ainsi que la précision avancée du système photorésiste FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Zeta 300, en font un choix idéal pour les applications où la précision et les performances de la couche AR sont essentielles.