Occasion FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Zeta 300 #9160258 à vendre en France

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Zeta 300 est un équipement photorésist de haute performance qui est utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs pour traiter des composants microfabriqués. FSI Zeta 300 utilise un système d'alignement de projection haute résolution pour aligner avec précision les composants microfabriqués. TEL Zeta 300 utilise un aligneur automatisé de type contact, qui peut fournir une précision d'alignement à l'échelle nanométrique et assurer une exposition uniforme du matériau photorésist. Zeta 300 est également équipé d'un moniteur de résolution qui permet de suivre avec précision le développement des composants au cours du processus. TOKYO ELECTRON Zeta 300 propose également une variété de solutions de pré-traitement et de post-traitement du substrat. Cela comprend une station de traitement humide automatisé, une unité de mesure automatisée et des capacités spécialisées de traitement des matériaux. De plus, le FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Zeta 300 est équipé d'un chargeur/déchargeur intelligent programmable qui peut déplacer des plaquettes entre les différentes étapes du processus. Le FSI Zeta 300 utilise deux systèmes d'exposition au faisceau électronique à plaques sources pour exposer avec précision le matériau photorésistant au rayonnement ultraviolet (UV) requis. Ces systèmes peuvent traiter jusqu'à deux substrats à la fois, sont capables de délivrer jusqu'à 7 500 mJ/cm2 par cycle d'exposition et peuvent être programmés pour délivrer une dose uniforme par champ. Les systèmes à faisceau d'électrons sont capables de résoudre des caractéristiques jusqu'à 0,5 μ m de taille et peuvent exposer des matériaux tels que des photorésistants, des diélectriques ou des métaux. TEL Zeta 300 dispose également d'un moniteur automatique d'épaisseur (ATM) qui est capable de mesurer automatiquement l'épaisseur du matériau photorésist. L'ATM est capable de surveiller jusqu'à 20 régions sur le substrat simultanément, permettant des mesures précises et le contrôle du processus de développement. La Zeta 300 est également équipée d'une machine CVA (APPC) spécialisée dans le plasma à pression atmosphérique, capable de produire du plasma d'oxygène à haute énergie pour assurer la fiabilité de la plaque chaude ou du rétrécissement de la plaque, réduisant ainsi les risques de rupture de la plaque. L'outil APPC est également capable de produire une variété d'autres gaz pour des applications spécifiques post-processus. Enfin, le TOKYO ELECTRON Zeta 300 est également équipé d'un actif de plaque chauffante, qui sert à répartir uniformément le matériau photorésist sur le substrat. La plaque chaude peut également être utilisée pour effectuer des opérations de cuisson douce. Le FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Zeta 300 est facile à utiliser et peut être géré par un seul utilisateur, ce qui le rend idéal pour un environnement de production à faible volume.