Occasion FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Zeta #293759249 à vendre en France

FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Zeta
ID: 293759249
Systems.
FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Zeta (ou « FSI Zeta ») est un équipement de photorésistance conçu pour la fixation de précision des dispositifs de circuits intégrés. Un système photorésist est utilisé pour imprimer des motifs détaillés sur une couche de matériau photosensible dont le développement initie la mise en oeuvre ultérieure d'une couche de circuit. L'unité TEL Zeta se compose de deux composants principaux : l'aligneur de masque et le enrobeur de spin. L'aligneur de masque est utilisé pour placer des masques à motifs sur des plaquettes de matériau photosensible, et possède des mécanismes d'alignement et de réglage de précision. Ceci assure un centrage et un enregistrement précis des masques sur la surface de la plaquette. Le spin coater est également utilisé pour traiter la plaquette de matériau photosensible. Cette machine est capable de délivrer du matériau photorésist à la plaquette à une vitesse précise, dans une épaisseur de film uniforme et avec une formation de bulles minimale. Le mécanisme d'enrobage est capable de régler et de maintenir une vitesse de rotation et un temps de rotation optimaux pour assurer l'enrobage uniforme de la résine photosensible sur toute la surface de la plaquette. La photorésistance Zeta comprend également une variété de réglages d'exposition spécialement conçus pour répondre aux besoins des différents circuits intégrés. Ces paramètres varient de faible à modérée et haute intensité énergétique, et l'interface utilisateur permet à l'utilisateur de sélectionner toute combinaison de ces paramètres pour atteindre la résolution de motif et la qualité d'image souhaitées. De l'exposition à la post-résistance, l'outil de photorésistance TOKYO ELECTRON Zeta offre une solution de modélisation de bout en bout conçue pour répondre aux exigences des circuits intégrés de haute performance. Avec ses composants robustes et son contrôle précis, FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Zeta photoresist actif est fiable, facile à utiliser et capable de produire des motifs complexes avec une grande précision et une excellente qualité d'image.
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