Occasion FU SHENG FR100APII #9247060 à vendre en France

FU SHENG FR100APII est un équipement de photorésistance avancé qui utilise la technologie holographique pour l'écriture et l'enregistrement laser. Ce système fournit une résolution submicronique de précision pour l'imagerie, l'alignement et l'affinage des couches organiques, et est capable de produire des motifs avec des largeurs de lignes et des rapports d'aspect supérieurs. L'unité se compose de deux sous-systèmes, le sous-système d'écriture/charge de couche de fluorescence (FLW/CS) et le sous-système d'exposition au laser (LES). Le FLW/CS utilise des faisceaux laser pour charger les couches organiques utilisées dans les processus de photorésistance. Il utilise une machine à balayer numérique spécialement conçue et des détecteurs d'énergie de fluctuation pour contrôler avec précision l'ensemble du processus de charge. Les LES utilisent trois types de lasers filtrés par interférence - UV, HeNe et KrF - pour exposer la résine photosensible au rayonnement optique, ce qui lui permet de durcir lorsqu'elle est exposée. Les lasers sont conçus pour produire de faibles impulsions et de très petites taches. L'outil FR100APT comprend également un outil automatisé de chargement et de transfert de plaquettes ou de substrats et un amplificateur à champs multiples auto-indexé (AIMFS) pour la création de champs de motifs multiples. Ceci est extrêmement utile pour les conceptions de puces qui nécessitent un grand nombre d'étapes et un haut degré de précision. L'équipement optique du modèle est équipé d'objectifs de puissance élevée pour augmenter la précision du processus d'écriture et de création de motifs. Le système dispose également d'une unité d'imagerie numérique qui permet aux utilisateurs de surveiller la photorésist et d'effectuer les ajustements nécessaires aux paramètres d'exposition. Le FR100APT peut stocker jusqu'à 30 programmes, qui sont habituellement liés à un processus photorésist particulier qui doit être répété. Cela permet d'économiser du temps et de l'énergie car les utilisateurs n'auront besoin d'entrer les paramètres pertinents qu'une seule fois, plutôt que de les réintroduire chaque fois que le processus doit être répété. Par conséquent, les procédés complexes de photorésistance sont gérés plus rapidement et avec plus de précision que jamais. Dans l'ensemble, FR100APII photorésist utilise la technologie de pointe pour produire des modèles et des images submicroniques de précision avec des largeurs de lignes et des rapports d'aspect supérieurs. C'est un outil inestimable dans l'industrie de la photorésistance, permettant aux utilisateurs de créer des motifs multiples et complexes avec rapidité et précision.