Occasion GRO-UP GSPC-6 / GCP-713B #171530 à vendre en France

LE GROUPE GSPC-6 / GCP-713B Photorésistent l'Équipement est un système complet pour la préparation, la couche et l'exposition de se photoopposent au matériel. Cette unité est conçue pour réaliser des montages de circuit haute résolution sur des substrats de films intermédiaires électroniques (FEI). Les principaux composants de cette machine comprennent un outil de dosage, un four, un manchon et une source d'exposition. L'actif de dosage mesure avec précision et mélange jusqu'à quatre composants de base à la fois pour permettre la personnalisation de la recette. Les cylindres de dosage de précision disposent de commandes de niveau réglables et d'un servomoteur à entraînement direct pour assurer un dosage précis et répétable, même aux niveaux bas. Le matériau photorésist dosé est alors prêt à être enduit. Le four est utilisé pour chauffer le matériau photorésist à une température adaptée au revêtement et au traitement. Le chauffage peut se faire en deux étapes, permettant à la fois le pré-séchage du matériau ainsi que le post-durcissement du revêtement. Ceci peut également être utilisé pour augmenter le débit du modèle en traitant par lots plusieurs substrats simultanément. L'enrobeur applique un revêtement uniforme et cohérent du matériau photorésistant sur le substrat. Le dépôt est automatiquement contrôlé et surveillé pour l'épaisseur, la composition du film, la composition de surface et les paramètres tels que l'angle du serpent, la torsion et la direction. Le régulateur de pas et de mouvement ajuste automatiquement la pression et le débit pour obtenir des résultats précis et cohérents. Le système d'exposition se compose d'une source lumineuse ultra violette, d'un réflecteur et d'un miroir. La source lumineuse délivre un rayonnement UV intense qui sature toute la surface du substrat. Ceci permet l'auto-alignement entre les zones exposées et non exposées du substrat lors du post-traitement. La source de lumière est également réglable pour fournir une exposition contrôlée et de faible puissance pour le tir fin de niveau micron. GSPC-6/ GCP-713B Photoresist Unit est une solution idéale pour les besoins avancés de création de circuits. Il fournit des performances précises et cohérentes, un débit élevé et des résultats cohérents. Cette machine est adaptée au traitement de la résine photosensible EIF et est adaptée aux applications nécessitant une précision et une haute résolution des circuits. Le compteur avancé, le four, le revêtement et l'outil d'exposition offrent la meilleure combinaison d'équipements et de fonctions pour le traitement efficace des matériaux photorésistants avancés.