Occasion HEADWAY CB 15 #9392727 à vendre en France

HEADWAY CB 15 Photoresist Equipment est un système avancé et robuste de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) conçu pour produire des couches de photorésist de haute qualité sur des substrats à l'état solide. Il permet la croissance de films avec un minimum de temps, d'effort et de coût. L'unité utilise des fonctions de contrôle de processus propriétaires, des diagnostics automatisés de fin de course et des composants personnalisés pour obtenir une résistance et une uniformité supérieures de la couche de photorésistance. La machine se compose d'une chambre de processus automatisée, d'un outil sous vide, d'une chambre de chauffage alimentée en air et d'un logiciel de contrôle et de surveillance. Le procédé CVD implique le dépôt d'une couche mince de matériau photorésistant sur une surface de substrat. On procède ensuite à une série d'étapes corrosives de nettoyage ou de finition et à l'application d'une couche de protection ou de photo-masquage. Dans l'actif CB 15, le procédé est initié par introduction dans la chambre de procédé d'une vapeur atmosphérique contenant du précurseur de photorésist. Ceci crée un gaz vaporisé de molécules réactives en suspension dans l'air. Le dispositif est très efficace avec un cycle d'évacuation unique et un temps de récupération minimal. Son collecteur à pression variable et ses chauffages intégrés permettent aux utilisateurs de contrôler avec précision les plages de pression et de température dans la chambre de procédé. Ceci permet d'assurer un dépôt uniforme de la couche de résine photosensible sur le substrat et des propriétés d'adhésion fiables. Les diagnostics de fin de course du modèle détectent automatiquement les effets secondaires indésirables du processus tels que les bulles et les vides. L'équipement PROGRESS CB 15 peut être utilisé avec une variété de matériaux photorésistants, de la photorésistance organique (OPR) conventionnelle aux polymères photorésistants et matériaux inorganiques. Sa capacité à déposer avec précision et uniformité même des couches photorésistantes très minces le rend idéal pour des applications haut de gamme nécessitant une épaisseur de couche exacte. CB 15 est capable de traiter des matériaux tels que le quartz, le silicium, l'arséniure de gallium, le nitrure de silicium et le germanium, et est compatible avec les traitements photolithographiques et gravures humides standards. Le système peut être utilisé à distance et est pris en charge par un manuel d'utilisation complet pour assurer un fonctionnement correct et efficace. Ses diagnostics automatisés de fin d'exploitation et l'enregistrement en temps réel des paramètres du processus garantissent une plus grande facilité de fonctionnement. Enfin, le dispositif est livré avec une série d'accessoires et d'unités de remplacement personnalisés en cas de défaillance matérielle. HEADWAY CB 15 Photoresist Unit est ainsi le choix parfait pour le dépôt de précision de couches de photorésist sur des substrats à l'état solide.