Occasion HEADWAY EC 101 #9123974 à vendre en France

Le HEADWAY EC 101 est un revêtement de résistance haute performance conçu spécifiquement pour les applications de l'industrie électronique. C'est une excellente solution pour les substrats plans et 3D nécessitant une géométrie de résolution extrêmement fine. Son équipement de revêtement multi-couches, fonctionnant négativement, intègre un matériau diélectrique polyimide à étage B de haute performance ainsi qu'une résistance compatible avec le demi-fente ou le toner. Une des caractéristiques clés de HEADWAY EC101 est sa performance hautement modulable et répétable. Il offre une haute résolution dans les directions verticale et horizontale, ce qui le rend idéal pour la métallisation sur des formes complexes sur des surfaces très planes avec une large gamme d'ouvertures et de largeurs de lignes. Le revêtement peut être réalisé avec des ondes acoustiques à très haute dissipation ou avec des méthodes photolithographiques. Cette polyvalence permet une grande variété de paquets de puces, d'assemblages de composants et d'applications de test et d'inspection, ainsi que la production de MEMS et d'autres composants micro-échelle. EC 101 est conçu pour fournir un système de photorésistance fiable et efficace. La couche diélectrique est très résistante à la gravure chimique, et la couche de résine peut être protégée contre les contaminants et les dommages pendant le post-traitement. Les couches sont conçues pour être compatibles avec les auxiliaires de traitement standard de l'industrie tels que les enregistreurs photosensibles et les composants de traitement photorésistants connexes. EC101 peut être utilisé conjointement avec d'autres systèmes de résistance avancés pour des applications plus complexes. Il fonctionne également bien avec d'autres processus électroniques tels que le formage, la mise en forme et le forage. En outre, ses capacités de nanofabrication fournissent un large éventail d'applications pour l'intégration des composants MEMS. Le HEADWAY EC 101 est conçu pour fournir une résistance photosensible fiable avec une résolution de motif exceptionnelle. Ses capacités de fabrication nano-échelle fournissent des capacités avancées pour les applications de l'industrie de la microélectronique. Il est idéal pour la fabrication de MEMS, de paquets de puces, d'assemblages de composants et d'applications de test et d'inspection. Il est conçu pour des performances répétables et haute résolution de fidélité, et est une excellente solution pour les fabricants à la recherche d'une machine photorésist fiable et efficace.