Occasion HEADWAY EC 102 Type 2 #10832 à vendre en France

HEADWAY EC 102 L'équipement photorésist de type 2 est un procédé de développement de composants électroniques de haute précision par la formation et le durcissement d'une fine couche de protection sur la zone souhaitée. C'est une méthode largement utilisée dans la production de circuits intégrés, d'écrans plats et d'autres appareils électroniques d'ultra-précision. Le système EC 102 de type 2 comporte l'application d'un matériau photorésistant sur le substrat. La photorésist est un matériau polymère, typiquement un polymère photosensible, qui réagit à l'ultraviolet ou à une autre énergie rayonnante telle que la lumière ou la chaleur pour créer un motif adressable. Ce motif est ensuite utilisé pour transférer le motif directement vers un nouveau substrat. Le substrat est ensuite chauffé à haute température pour durcir le matériau photorésistant et former le motif désiré. De plus, l'utilisation de plasma à base d'oxygène peut être utilisée pour améliorer davantage les résultats de la formation du modèle. Une fois le motif formé, le substrat est ensuite exposé à la source de lumière appropriée (généralement UV) afin de surexposer le motif et de créer une forte couche de photostationnerie. Cette couche sert de couvercle permanent destiné à protéger les composants sous-jacents. HEADWAY EC 102 L'unité de résistance photosensible de type 2 est utilisée dans de nombreuses industries, y compris l'automobile, l'aérospatiale et l'électronique grand public. Pour la production de circuits intégrés, le procédé est utilisé pour assurer une couverture très uniforme et pour réduire les défauts causés par un revêtement inégal. Il améliore également la robustesse du processus, le rendant plus résistant aux facteurs environnementaux. Le processus est relativement simple, mais a des rendements élevés qui minimisent les déchets de produits et maximisent les rendements utilisables. Étant donné que le processus d'exposition est répétable et offre des résultats cohérents, l'utilisation de la même technique de résistance photosensible peut être appliquée à différentes couches de procédé IC, ce qui garantit que la formation et le durcissement des motifs sont uniformes entre les couches. Ces caractéristiques permettent à la machine EC 102 de type 2 de fournir la haute résolution et la précision nécessaires dans la production électronique avancée d'aujourd'hui. Le procédé offre une grande fiabilité et est souvent utilisé en combinaison avec d'autres procédés tels que la photolithographie pour améliorer encore les rendements et réduire les coûts. Dans l'ensemble, l'outil de photorésistance HEADWAY EC 102 de type 2 est une méthode établie et fiable pour produire des circuits intégrés, des écrans plats et d'autres composants électroniques de haute précision. L'actif offre une résolution élevée, de faibles niveaux de variabilité, et peut être appliqué à un large éventail de substrats. Cela en fait un choix idéal pour les industries exigeant des résultats cohérents et de haute qualité.