Occasion HEADWAY EC 102 #114663 à vendre en France

Le système HEADWAY EC 102 est un système de résistance photosensible conçu pour les processus de fixation d'une seule couche et d'une double couche dos à dos. Il s'agit d'un photorésist de type négatif à basse température avec d'excellentes performances de formation de film sur des substrats métalliques, diélectriques et organiques. EC 102 est particulièrement adapté aux applications MEMS, où une sélectivité supérieure de gravure sèche sur la résine photosensible et le métal est requise. Son développement comprend un groupe fonctionnel optiquement actif qui se réticule pour former un réseau de polymères lorsqu'il est exposé à une source de lumière UV. La réaction entraîne une résistance accrue aux bombardements ioniques à haute énergie dans les processus de gravure à haute résolution. Ce système photorésist offre une excellente uniformité et une sélectivité de gravure sèche par rapport aux couches organiques photodéfinissables. Son réseau hybride organique-inorganique est conçu pour un minimum de perles de bord, a minimisé l'effet de la gravure arrière et son adhérence de surface est excellente. Lorsqu'il est exposé à une forte irradiation laser, le produit se comporte presque parfaitement à travers des variations de très faible largeur de ligne dans les motifs de couche simple niveau, permettant des résultats de gravure haute résolution. Ses faibles performances en résidus minimisent la nécessité d'utiliser des nettoyants très agressifs et le rendent apte à être utilisé dans des couches minces de diélectriques sensibles. PROGRESS EC 102 peut être développé avec un large éventail de développeurs positifs et négatifs. Des nano-particules à coquille phénolique à la polymérisation à basse température, il offre une excellente capacité de traitement et peut être utilisé dans de multiples applications de traitement. Le produit présente également une excellente uniformité de revêtement, consistance et planarisation de surface. L'EC 102 est bien adapté à des applications telles que les émetteurs-récepteurs optiques, les afficheurs à cristaux liquides et les puces microfluidiques qui nécessitent des mesures très précises et une planarisation de surface. Dans l'ensemble, le système de photorésistance HEADWAY EC 102 est un procédé très polyvalent et économique pour créer de grandes tailles de fonctionnalités, des couches minces et des structures très précises pour une large gamme d'applications MEMS. Il est conçu pour être compatible avec les couches ultrathines de substrats diélectriques et organiques, pour travailler en combinaison avec une variété de développeurs positifs et négatifs, et pour présenter une excellente sélectivité et uniformité des gravures sèches.