Occasion HEADWAY EC 102 #9123998 à vendre en France

Le HEADWAY EC 102 est un équipement photorésist négatif monocouche conçu pour augmenter le rendement de production des tranchées à haut rapport d'aspect dans les applications d'impression optique en microlithographie. Le système de photorésist se compose d'une photorésist positive, EC 102, et d'une chimie en développement qui travaillent ensemble pour améliorer la résolution, la rugosité des bords de ligne basse (LER) et le contrôle de la largeur de ligne. Le photorésist positif, HEADWAY EC 102, est composé d'un polymère à longue chaîne, d'un générateur de photoacides et d'une fusion additive qui fournit une meilleure planarisation. La structure du polymère à longue chaîne donne une plus grande résolution et une meilleure rugosité de bord de ligne (LER) que les systèmes durcis thermiquement, tandis que le générateur de photo-acide et l'amalgamation additive améliorent la planarisation en fournissant des rapports de sélectivité de gravure plus élevés. La chimie de l'unité de photorésistance EC 102 est optimisée pour offrir une haute sélectivité de gravure, une stabilité à long terme et une excellente adhérence à une variété de substrats. La machine a des exigences de cuisson à basse température, ce qui signifie qu'elle ne sera pas affectée par des températures élevées pendant le traitement. De plus, la résine photosensible peut résister jusqu'à 300 ° C pendant les processus de cendrage et de soulèvement latéraux. L'outil de résistance photosensible HEADWAY EC 102 est conçu pour fournir des lignes de production très performantes. Son exigence de cuisson à basse température permet une intégration plus rapide du substrat et un traitement pré-enrobé, raccourcissant le temps de cycle. En outre, sa compatibilité avec une variété d'équipements de traitement standard, tels que les nettoyants de plaquettes, les séchoirs et les systèmes d'exposition, garantit des performances élevées à faible coût. En outre, l'actif photorésist EC 102 est très fiable. Il se caractérise par une grande stabilité thermique, hydrolytique et oxydative, permettant son utilisation dans une large gamme de températures et d'environnements de traitement. Le modèle photorésist est également facile à utiliser ; sa formulation robuste le rend adapté à toutes les conditions de température, d'humidité et d'exposition. En résumé, HEADWAY EC 102 est un équipement de photorésistance négative à revêtement unique conçu pour fournir une excellente résolution, rugosité de bord de ligne (LER) et contrôle de la largeur de ligne. Sa cuisson à basse température, sa grande sélectivité de gravure, sa stabilité à long terme et sa compatibilité avec divers équipements de traitement standard en font un choix idéal pour les applications d'impression optique en microlithographie.