Occasion HEADWAY LM22-PWM-103 #9181822 à vendre en France

HEADWAY LM22-PWM-103
Fabricant
HEADWAY
Modèle
LM22-PWM-103
ID: 9181822
Resist spinner.
HEADWAY LM22-PWM-103 est un équipement de photorésistance conçu pour la fabrication de semi-conducteurs et d'autres applications de traitement microélectronique. Il est capable d'accueillir une gamme de tailles de processus, de 200 mm à 300 mm de plaquettes, ce qui le rend idéal pour une grande variété de tâches. Le système dispose d'une source lumineuse PWM évoluée à quatre canaux avec un temps d'exposition réglable pouvant atteindre 250 ms. Il offre une uniformité et une douceur accrues pour le traitement du film et permet également un contrôle précis de l'épaisseur du film et d'autres paramètres afin d'optimiser les rendements. En outre, l'unité dispose d'une machine de refroidissement automatique avancée, réduisant le temps de réaction photochimique afin d'améliorer la productivité dans les environnements à haute productivité. L'outil dispose d'une plate-forme optique adaptative intégrée qui permet d'utiliser une variété de configurations optiques - optique libre, lentilles cylindriques et miroirs elliptiques - afin d'obtenir les résultats d'imagerie souhaités. Cela permet une imagerie et un positionnement précis des plaquettes de différentes tailles et permet des vitesses de traitement plus rapides. Pour des raisons de sécurité, l'actif dispose d'un modèle de contrôle intégré avancé et multi-canaux, permettant de contrôler divers paramètres tels que la température, la pression et le moment du traitement. Cela aide à maintenir des conditions de traitement du film cohérentes et à prévenir le risque de contamination. L'équipement dispose également d'une interface graphique intuitive qui permet aux utilisateurs de visualiser et de contrôler les paramètres du système. Cette unité facile à manipuler permet également une plus grande flexibilité en permettant la création de recettes sur mesure pour des procédés spécifiques. Dans l'ensemble, LM22-PWM-103 photorésist est l'un des systèmes les plus avancés et les plus polyvalents disponibles sur le marché. Ses fonctionnalités intégrées et ses composants puissants en font un choix parfait pour les utilisateurs qui ont besoin d'un outil de photorésistance pour une variété d'applications. Avec ses capacités étendues, il peut fournir des résultats optimaux et un rendement amélioré.
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