Occasion HEADWAY LSC 510 #123052 à vendre en France
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ID: 123052
Photoresist coater
22" Diameter chamber
Large substrates: 50-6,000 rpm
Safety enclosure
(6) Speeds
(14) Timers.
HEADWAY LSC 510 est un équipement photorésistant commercial conçu pour le processus de lithographie pour le développement et la production de prototypes. Le système se compose de deux composants principaux - l'unité de livraison et l'unité de lithographie - et est alimenté par trois contrôleurs de balayage laser (LSC). L'unité de distribution abrite l'unité de diode laser, qui fournit l'énergie pour le processus de photorésistance. Le transfert d'un motif désiré sur une plaquette commence par le motif photomasque. Le polyméthacrylate de méthyle (PMMA) est appliqué sur la face avant du masque, suivi d'une couche de platine de chrome ou d'un autre métal. Le masque est alors placé sur le substrat et exposé au rayonnement UV de la diode laser. Ceci initie une modification du substrat initialement recouvert de photorésist, n'exposant que les zones que la diode laser a pu atteindre. Le transfert du motif photomasque vers le substrat est réalisé à travers l'unité de lithographie. Cette unité contient trois composants : un étage d'exposition, une unité de balayage et le générateur de faisceau. L'étage d'exposition contient un étage x-y motorisé de haute précision qui tient la plaquette, ainsi qu'une machine d'inclinaison pour contrôler l'angle de la plaquette pendant l'exposition. L'outil de balayage déplace la diode laser dans des directions définies sur le photomasque. Le générateur de faisceau est responsable du laser et de l'intensité de la diode laser. L'unité de lithographie est contrôlée par trois contrôleurs à balayage laser (LSC), qui fournissent la précision de position et le contrôle informatique nécessaires à un processus photorésist réussi. Ils contrôlent les coordonnées de haute précision du laser, surveillent le motif photomasque et positionnent la diode laser avec la précision requise. LSC 510 est idéal pour le prototypage rapide et la production de masse. Sa précision et sa conception compacte le rendent adapté à de nombreux types d'environnements et de processus. C'est une solution fiable et rentable pour les projets de lithographie et fournit des résultats précis.
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