Occasion HONGSU BOE #9328964 à vendre en France
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ID: 9328964
Taille de la plaquette: 5"
Photoresist removal system, 5"
DI Water:
Average flow LPM: 90
Maximum pressure: 2.5 kg/cm²
Temperature: RT
Resistance Ω: >18
Caliber inch: 11/2"
Gases:
CDA:
Maximum pressure: 7 kg/cm²
Minimum flow: 400
Pipe: SUS316
Connector: SWAG
Caliber inch: 1/2"
N2:
Maximum pressure: 7 kg/cm²
Minimum flow: 200
Pipe: SUS316
Connector: SWAG
Caliber inch: 3/8"
Filter: 1um
H2SO4:
Maximum flow: 5
PFA Pipe
Flare connector
Caliber: 1/2"
H2O2:
Maximum flow: 5
PFA Pipe
Flare connector
Caliber: 1/2"
Acid exhaust:
Maximum pumping volume CFM: 450
PP Pipe
Flange connector
Caliber inch: 8"
Power supply: Single-phase, 220 V 3-wire, 210 A, 46.2 kVA.
HONGSU BOE est un équipement de photorésistance qui est utilisé dans la production de dispositifs microélectroniques de haute précision. Le système est un matériau photorésist spin-on avec un revêtement de protection intégré, qui assure la fiabilité et la stabilité dans un environnement microélectronique libre. Il est conçu pour répondre spécifiquement aux exigences de la conception d'appareils modernes. Le matériau photorésist est enrobé par spin sur le substrat du dispositif microélectronique. Ensuite, le matériau sensible est exposé à la lumière UV, ce qui modifie sélectivement les propriétés du matériau exposé. Une fois le motif désiré créé, l'excès de résine photosoudée est ensuite éliminé. Ceci peut se faire soit par gravure plasma, gravure chimique humide, ou usinage laser. BOE est une unité entièrement développée qui peut être adaptée à tous les aspects du processus de photorésistance, y compris, sans s'y limiter, les étapes du processus de développement, de gravure et enfin de durcissement, en utilisant la technologie des films secs et/ou humides. Le dispositif obtenu est résistant à l'humidité et à la contamination de l'environnement, ce qui peut entraîner une dégradation des dispositifs photorésistants. Ceci résulte du revêtement protecteur présent sur la machine HONGSU BOE. L'outil BOE offre des avantages par rapport aux autres systèmes, notamment parce qu'il permet une stabilité et une fiabilité beaucoup plus grandes. Le matériau photorésist est conçu pour rester stable et maintenir son intégrité pendant la fabrication, ce qui entraîne moins de défauts et une meilleure fiabilité du dispositif. En outre, l'actif permet un haut degré de précision dans le processus de photolithographie grâce à sa couche photosensible alignée et sa source lumineuse focalisée. Cela garantit que le dispositif est en mesure de fournir des résultats cohérents à chaque fois. Enfin, HONGSU modèle BOE utilise des outils et des techniques de pointe, assurant que le dispositif microélectronique produit est de la plus haute qualité. Les équipements tels que l'étage tournant de plaquettes, l'équipement sous vide et le moniteur sont tous adaptés aux exigences du système de photorésistance, ce qui permet d'assurer la performance efficace et précise du processus de photolithographie. Cela permet des processus personnalisés et fiables pour une application donnée, et aide à simplifier le processus de fabrication. En conclusion, BOE est une unité photorésist complète qui offre des résultats fiables et cohérents. Il est conçu spécifiquement pour les dispositifs microélectroniques, et dispose d'une machine de conduite de précision et d'un revêtement de protection. Cet outil fournit également des niveaux élevés de stabilité et de précision, et est facile à utiliser et à entretenir. Dans l'ensemble, HONGSU BOE est un atout photorésist idéal pour la conception d'appareils complexes et de haute précision.
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