Occasion HONGSU BOE #9328982 à vendre en France

HONGSU BOE est un équipement de photorésistance qui crée un mince revêtement de film polymère sur les surfaces. Ce système photorésist utilise un mélange photosensible d'un photoinitiateur et d'un liant polymérique. Le but du liant polymérique est de donner à la photorésist ses propriétés physiques. Le but du photoinitiateur est de faciliter la polymérisation radicalaire du liant lorsqu'il est exposé à la lumière ultraviolette. L'unité de photorésistance est utilisée pour créer des motifs, graver des composants électroniques et former des métallisations sur des substrats. BOE offre une variété de photorésistances avec diverses propriétés telles que la solubilité, la viscosité et la capacité de résister à des matériaux de gravure chimique spécifiques. Cette photorésist est une alternative de film sec aux systèmes de photorésist liquide. Lors de l'application de la résine photosensible sur un substrat, le film HONGSU BOE est appliqué dans un film mince. Le film peut être appliqué par enrobage, coulée, trempage ou pulvérisation. Une fois le revêtement photorésist en place, le substrat est exposé à un rayonnement ultraviolet à l'aide d'une imprimante photolithographique. Les molécules lumineuses se brisent lors de l'exposition aux ultraviolets et provoquent la formation de radicaux sur la résine photosensible. Ceci déclenche une série de réactions qui font polymériser le photorésiste en une masse cohérente qui adhère au substrat. La zone exposée durcit et forme un motif de relief lorsqu'elle est développée. Après développement, le matériau photosensible est enlevé et le motif de relief laissé sur le substrat derrière. Le motif en relief est le motif désiré et il sert de masque de gravure. Le masque de gravure décrit la zone à graver du substrat, telle que les motifs significatifs des composants électroniques. Après la gravure, le résidu de la résine photosensible est éliminé pour exposer le matériau organique ou minéral du substrat. En conclusion, BOE est une machine de photorésistance qui est utilisée pour créer des motifs sur des substrats. Cet outil nécessite l'application d'une photorésist en couche mince sur le substrat, l'exposition aux rayonnements ultraviolets et le développement du relief de la photorésist. Cet actif photorésist est très populaire dans les domaines de l'électronique, de la métallisation et de la fermentation en raison de ses résultats efficaces.