Occasion HONJIG HJ-W003D #9292547 à vendre en France

HONJIG HJ-W003D est un équipement de photorésistance indiqué pour les procédés de lavage alcalin et de gravure à sec sur substrats semi-conducteurs. Il est composé de deux composantes : photo-initiateur (PI) et photorésist (PR). Le PI est utilisé pour initier la réaction photosensible, tandis que le PR agit comme revêtement protecteur lors du traitement. HJ-W003D système est conçu pour des processus contrôlés en température qui vont de -40 à + 150 ° C avec une excellente uniformité. Il est spécialement conçu pour le durcissement rapide avec une grande uniformité d'épaisseur et peut être traité jusqu'à 300 nm ce qui permet un traitement haute densité. Il est capable d'enlever le PR des trous caractéristiques et de permettre une gravure sèche sans résistance. L'unité de photorésistance HONJIG HJ-W003D est très fiable et robuste en raison de sa composition chimique et de ses procédés spécialement conçus. Il peut être utilisé dans une variété de substrats semi-conducteurs dont le silicium, le germanium, l'arséniure de gallium, l'arséniure de gallium d'aluminium, et des substrats organiques pour le brasage, le polissage et la métallisation. La machine présente également une excellente sensibilité à large spectre, UV-A et diode électroluminescente (LED) pour les applications en couches minces. En outre, HJ-W003D est capable d'atteindre une capacité d'image supérieure grâce à sa capacité de résolution de motifs élevée. Il permet également la formation de motifs précis et une excellente résistance à la liaison. Il peut également fonctionner avec des caractéristiques avancées MEMS et nanométriques. En outre, HONJIG HJ-W003D est conforme à de multiples normes et réglementations industrielles telles que RoHS, REACH, Green Building Initiative (GBI) et l'indice de performance environnementale le plus élevé (EPI). Il offre une excellente compatibilité avec plusieurs produits chimiques et matériaux ; et offre une résolution de ligne supérieure avec un faible taux de résidus. Sa structure permet un revêtement sans impact sur les films métalliques et organiques. Dans l'ensemble, HJ-W003D outil de photorésistance est une solution avancée pour permettre la détermination précise et la résolution de ligne. L'actif est très fiable, robuste et conforme aux normes de l'industrie permettant une compatibilité avec un large éventail de types chimiques et de matériaux.