Occasion INTELLIGENT MICRO PATTERNING SF-100 #9390791 à vendre en France

ID: 9390791
Style Vintage: 2009
Maskless lithography system Maximum size of substrates: 200 mm x 200 mm Wavelength: 365-578 nm Mercury lamp: 200 W (Resource of work 1000 hours) Minimum element size: Up to 1 µm Grayscale exposure: 768 Levels Vision system: CCD Camera Control: Standard PC, User interface Data format: BMP, DXF Automatic focusing Semi-automatic combination Optics: Standard optics, high resolution optics Backing plate XY-Axis travel: Accuracy: ±200 nm Repeatability: ±50 nm Z-Axis travel: Total travel: 25 mm Accuracy: ±200 nm Repeatability: ±75 nm Theta movement: Rotation: 360° Accuracy: ±5 arc sec Repeatability: ±2 arc sec Vibration protection: Anti-vibration base Vacuum: -0.6 bar Pneumatic supply: 5-6 bar, 0.5 m³/h Power supply: 200 V, 50-60 Hz, 7 kW (Maximum) 2009 vintage.
MICROSTRUCTURE INTELLIGENTE SF-100 MICROsTRUCTURE INTELLIGENTE L'équipement est un système de photorésistance de pointe qui est utilisé dans des applications telles que la fabrication de dispositifs semi-conducteurs et la micro-fabrication. Il utilise une technologie de vision de machine sophistiquée pour fournir une précision et une précision élevées pour le micro-tissage des produits. SF-100 unité utilise une technique unique d'exposition double et une source lumineuse bien définie pour obtenir une excellente résolution de fonctionnalité et l'uniformité. INTELLIGENT MICROSTRUCTURE SF-100 dispose de systèmes de positionnement optique de haute précision qui lui permettent d'aligner avec précision la couche de résine photosensible avec le substrat du dispositif. Il dispose également d'une exposition automatisée et d'un module de développement qui assure une exposition adéquate de la résine photosensible. Ce module peut également prendre en charge un balisage haute et moyenne résolution qui permet de minimiser les éventuels défauts dus à une exposition incorrecte. SF-100 dispose également de systèmes sophistiqués de contrôle des procédés qui permettent d'uniformiser et de développer correctement la couche de résine photosensible. Ceci est essentiel pour obtenir des modèles très précis. La machine comprend également un Writehead laser qui utilise des lasers de différentes longueurs d'onde pour écrire des motifs directement sur la photorésist. L'outil est équipé d'un atout d'imagerie optique haute résolution, qui peut être déterminé par l'utilisateur. Il peut être utilisé pour faciliter la finition avec des caractéristiques inférieures à 5 um. Ce modèle peut être utilisé pour des travaux de lithographie impliquant des détails plus fins, comme des tranchées, des rainures ou des fosses. INTELLIGENT MICROBATTAGE SF-100 INTELLIGENT MICROBATTAGE L'équipement offre une flexibilité maximale en termes d'impression et de développement. Il a à la fois un fonctionnement par lots et en mode continu pour mieux répondre à des emplois très complexes. Il dispose également d'une gamme de revêtements compatibles et de matériaux photorésistants adaptés à différentes applications des appareils. SF-100 système est facile à utiliser avec son interface graphique intuitive. Il permet à ses utilisateurs d'ajuster rapidement et avec précision les paramètres de l'unité. Il comprend également plusieurs systèmes de sécurité pour s'assurer que les substrats de la photorésist et du dispositif sont maintenus à l'état vierge tout au long du processus. MICRO-CRÉATION INTELLIGENTE SF-100 MICRO-CRÉATION INTELLIGENTE La micro-machine est un outil inestimable pour fabriquer des micro-motifs de haute qualité et ultra-précis. Il a la capacité de produire des motifs de caractéristiques étanches pour un large éventail d'applications, de la fabrication de dispositifs semi-conducteurs au micromachinage. Avec son fonctionnement fiable et ses résultats précis, SF-100 est parfait pour obtenir la plus grande précision et reproductibilité de l'appareil.
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