Occasion IVI 2205 #9156740 à vendre en France

IVI 2205 Photoresist Equipment est un système d'imagerie par transfert de motifs conçu pour créer une imagerie précise des photomasques et autres cartes de circuits ou substrats. Il permet aux utilisateurs de modéliser le transfert par divers procédés de lithographie, tels que l'sérigraphie, le gaufrage à chaud, la découpe laser ou l'imagerie photorésistante par film sec. Il dispose d'une sélection de longueurs d'onde allant de 405nm à 365nm, ce qui le rend idéal pour une grande variété de tâches de photolithographie. L'unité offre également des vitesses d'imagerie allant jusqu'à 800 mm/s avec une résolution minimale de 0,04 mm. 2205 utilise une machine d'imagerie optique unique avec une source de lumière monochromatique dosée. Cette source lumineuse est interfacée avec un capteur d'image, qui surveille l'ensemble de la photomasque ou du substrat en cours de transfert. Des matériaux photosensibles sont utilisés pour créer l'image désirée. La source lumineuse est soit un laser continu, soit un laser pulsé, selon le procédé mis en oeuvre. L'outil dispose d'un filtre numérique qui est utilisé pour contrôler la longueur d'onde de la lumière et assurer une bonne résolution d'image. Ce filtre est capable de délivrer une largeur de longueur d'onde, assurant une exposition constante du photomasque ou substrat. En outre, l'actif peut être utilisé pour des processus avancés tels que le gaufrage à chaud, permettant aux utilisateurs de transférer des modèles plus complexes à des surfaces même à petite échelle. IVI 2205 dispose d'un modèle entièrement automatisé, permettant aux utilisateurs d'effectuer un transfert rapide et précis. Il est également conçu pour optimiser les niveaux de production, réduisant considérablement le temps et l'effort requis pour compléter les photomasques. En outre, l'équipement dispose d'une interface utilisateur graphique intuitive, ce qui permet aux utilisateurs de contrôler facilement le processus de transfert de motifs. 2205 est conçu pour être fiable et durable, ce qui en fait l'un des systèmes de transfert de motifs photomasques les plus efficaces sur le marché. Il est également conçu avec des protocoles de sécurité en tête, limitant les dommages au photomasque ou au substrat lors du transfert de motifs. En outre, sa taille compacte le rend facile à adapter dans n'importe quel laboratoire ou environnement de production. Dans l'ensemble, IVI 2205 Photoresist System est une solution idéale pour des transferts de motifs efficaces et précis dans une variété de processus de photolithographie.