Occasion IZOVAC AOC-M #9249484 à vendre en France

IZOVAC AOC-M est un système de haute qualité de résistance photo conçu spécifiquement pour la gravure sélective de matériaux microélectroniques. Il s'agit de la norme de l'industrie pour la fabrication de microcircuits et convient à un large éventail de procédés tels que la gravure humide, le décollage, la gravure chimique, la gravure à la vapeur et la pulvérisation. Le système utilise un composé organique sensible à la lumière unique qui sert à la fois de photorésist et de masque de gravure. Cette combinaison permet d'effectuer des prélèvements et des gravures précis et uniformes tout en évitant la formation de résidus indésirables sur la surface de la plaquette. AOC-M se compose de deux composantes : la photo résiste et les masques de gravure. Les photorésistances sont appliquées sur le substrat avant exposition à une longueur d'onde spécifique de rayonnement. Le rayonnement provoque la photo résiste à durcir, devenant un film sec. Ce film sec agit comme le masque qui empêche la gravure d'accéder aux zones non protégées du substrat. Les masques de gravure sont appliqués à la suite de la couche de résistance photo. Ceux-ci sont typiquement composés d'un composé organique qui réagit à la solution de gravure, protégeant le substrat des effets de gravure défavorables. Dans certains cas, les masques de gravure peuvent également favoriser le processus de gravure, réduisant le temps de cycle et augmentant le débit. Une fois les masques de photorésist et de gravure en place, le masque/substrat peut être soumis aux conditions de gravure spécifiques. L'graveur réagira avec les zones non protégées du substrat, tandis que la photorésist et le masque de gravure protégeront les zones souhaitées. Ce motif de treillis de gravure et de masque conduit à une couche de circuit modélisée. La combinaison de photorésist et de masque de gravure fait d'IZOVAC AOC-M un choix idéal pour une variété de tâches de fabrication microélectronique, y compris la gravure, la gravure sélective et le contrôle des processus. Le système offre un haut niveau de précision et de reproductibilité, et est bien adapté aux processus au niveau de l'appareil ou des composants. De plus, la robustesse de l'AOC-M le rend adapté à une large gamme de chimies de gravure. En fin de compte, IZOVAC AOC-M fournit la technologie exigeante nécessaire à la fabrication microélectronique moderne.