Occasion IZOVAC Aurora G5 #9395190 à vendre en France
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ID: 9395190
Single side metal coater
Type: Vertical
Coating method: Sputter
Substrate: GaAs Wafer, (80) Substrates / Carriage
(2) Carriages
Membrane: (6) Metal layers
Tact time: 336 sec
Carrier moving speed: 0.245 m/min
Cathode distance: ≥1000 mm
Coating thickness: 120 mm ≤±5%
Auto loading / Unloading (Portal type robot, TBD)
Substrate uncoated area: <2 mm
RGA PC, protection valve, ports
Substrate size: Square with rounded edges
Maximum: 108.5 mm x 108.5±0.5 mm
Minimum: 106 mm x 106 mm
Corner radius: 4.5±0.5 mm
Edge exclusion: 2 mm around
Thickness range: 0.55 mm - 0.65 mm
Substrate coating area: 102 mm x 102 mm
Acceptable temperature: ≤250°C
Etching:
Ion beam source (Linear)
Remove 10 A - 50 A ≤±5% across each pallet
Magnetrons:
DC Planar magnetrons (MSS)
(11) DC Rotary magnetrons (CMSS)
Pumps:
Dry mechanical pumps
Turbo molecular pumps
Cryogenic pumps.
IZOVAC Aurora G5 est un équipement de photorésistance de pointe conçu pour fournir des résultats fiables et précis dans une variété d'applications microscopiques. Les systèmes photorésistants sont utilisés pour créer des structures microscopiques très précises sur diverses surfaces, y compris le verre, le silicium et d'autres matériaux. La conception améliorée du système Aurora G5 permet une plus grande précision que les systèmes photorésistants standard. L'unité est capable de produire des caractéristiques qui ont des coins vifs, et les angles des caractéristiques produites peuvent être contrôlés avec précision à quelques minutes d'arc. La gamme de tailles d'IZOVAC Aurora G5 peut être ajustée d'un micron à 40 microns. Avec son progiciel de pointe, il peut produire des motifs aux formes complexes, comme les cercles, les spirales et les étoiles, même en trois dimensions. La machine Aurora G5 est très automatisée, permettant une production efficace et sans surveillance. L'outil préprogrammable produit des motifs très détaillés et reproductibles, et des caractéristiques telles que la protection anti-éblouissement et l'étalonnage du moniteur de faisceau assurent que le photomasque reste stable et que la lumière fournie est comme prévu. L'actif G5 a également une source UV améliorée qui est à la fois plus brillante et précise. Ceci permet une exposition plus rapide et plus précise de la photorésist, permettant de créer des motifs à l'échelle des microns d'une manière qui serait impossible avec les systèmes de photorésist classiques. La source d'exposition aux UV peut être ajustée pour produire une couverture encore plus uniforme, permettant de développer des caractéristiques encore plus complexes. IZOVAC Aurora G5 est également équipé d'un modèle d'imagerie avancé. Cela permet une inspection et une évaluation rapides des caractéristiques créées par la résine photosensible. Dans l'ensemble, l'équipement de photorésistance Aurora G5 est optimisé pour la vitesse et la précision, et il est hautement automatisé et convivial. Il fournit des résultats précis et reproductibles pour diverses applications microscopiques, et est un outil fiable pour créer des motifs complexes avec des coins pointus et une haute densité de caractéristiques.
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