Occasion IZOVAC Heliosiz #9395189 à vendre en France
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ID: 9395189
PEVCD Coater
Type: Lying down
Substrate: Silicon wafer
Membrane: a-Si:H, doped a-Si:H, SixNy:H
Substrate size: 156.75 mm x 156.75±0.25 mm
Deposition rates: 0.1 - 5 nm/sec
Coating technology: (2) CCPs
Double sided coating
Coating thickness: ≤±3% (Single layer)
Dry mechanical pumps
Process temperature: Up to 250°C
Manual loading / Unloading
Acceptance test: TBD
Chamber pressure:
Ultimate pressure: 1.1 Pa
Working pressure: 100 Pa - 1000 Pa.
IZOVAC Heliosiz est un équipement de photorésistance de pointe conçu pour fournir des résultats de microenduction extrêmement précis, cohérents et reproductibles. Il fournit un processus étroitement contrôlé qui augmente la précision et la reproductibilité des revêtements complexes sur une variété de substrats. Le système combine un contrôle entièrement automatisé de tous les paramètres de revêtement avec une métrologie intégrée, permettant une rétroaction et une optimisation rapides des processus. Le processus commence par la formation d'une couche de résist sur le substrat en utilisant le faisceau d'électrons (EB) ou l'exposition aux UV profonds (DUV). La couche de résine exposée est ensuite développée à l'aide d'une solution de développement aqueuse tamponnée pour révéler le motif de surface désiré. Une gamme d'options de cuisson post-exposition et post-développement assurent une formation de film optimale. L'unité de contrôle logiciel automatisé permet d'ajuster facilement les paramètres de chauffage, d'exposition et de traitement des substrats. Il offre également une excellente intégrité et traçabilité des données tout au long du processus. Pour assurer l'uniformité entre les lots, la machine comprend l'auto-échantillonnage et le réglage automatisé de tous les paramètres du processus. Heliosiz utilise une technologie de ligne de lumière spécialisée pour le positionnement précis de la tête d'exposition afin de réduire les possibilités de chevauchement dans les couches de résistance. Les durées exactes d'exposition et d'exposition peuvent être modifiées pour tenir compte de divers défis tels que les niveaux élevés de contamination par la poussière. Il offre également une cuisson post-exposition, au besoin, pour éviter la surexposition de couches de résistance plus délicates. IZOVAC Heliosiz utilise une fonction de revêtement de teinture spécialisée pour fournir une variété de revêtements à l'appareil. Cette caractéristique peut être utilisée pour protéger des caractéristiques délicates, améliorer l'adhérence des matériaux résistants et faciliter le dépôt de matériaux actifs sensibles. Les performances ultimes de tout revêtement réalisé par l'outil peuvent être évaluées avec des outils de métrologie appropriés. Heliosiz est un actif photorésiste polyvalent, puissant et précis qui fournit des résultats de revêtement très reproductibles pour un large éventail de substrats. Le contrôle automatisé des processus et l'optimisation des processus permettent un contrôle serré de tous les paramètres du processus, et la métrologie permet un ajustement rapide de la rétroaction du modèle. Cela fournit la base d'un processus cohérent qui a été prouvé dans l'environnement de production.
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