Occasion JEOL JFC-1600 #9261178 à vendre en France

JEOL JFC-1600 est un équipement de photorésistance conçu pour générer des structures fines sur un substrat en utilisant une combinaison de lumière et de rayonnement UV. Ce dispositif utilise un aligneur de masque de haute précision, qui est capable de positionner avec précision un masque de résine photosensible précontraint et pré-exposé sur un substrat. L'aligneur du masque a une résolution d'étage de 200-sub-microns, ce qui permet une description lithographique de haute précision. JEOL JFC 1600 utilise la lumière ultraviolette i-line pour l'exposition. Cette lumière est utilisée pour exposer la couche de substrat sensibilisée, initiant une réaction chimique avec la résine photosensible pour former un motif durable. Afin de contrôler l'énergie d'exposition et le profil optique de la couche de substrat exposée, l'intensité de la lumière est réglable. En plus de l'exposition à la lumière, JFC-1600 fournit également un processus de gravure. Le procédé de gravure utilise du plasma dans un environnement contrôlé pour générer le motif désiré sur le substrat. Le procédé de gravure par plasma assure une surface propre avec une grande précision, éliminant les résidus restants du film photorésist. Le JFC 1600 utilise un système de placement de piste afin de positionner rapidement et précisément le motif désiré sur le substrat. Cette unité simplifie le processus de découpage lithographique, en veillant à ce que le substrat exposé soit placé et aligné avec précision. Enfin, JEOL JFC-1600 fournit également une machine de chauffage, qui permet le collage de substrat à haute température. Ce procédé est très important pour assurer la solidité du motif souhaité avec la couche de substrat. Le procédé de collage à haute température permet également une meilleure adhérence du motif sur la surface du substrat. JEOL JFC 1600 est un outil de photorésistance très efficace et précis qui assure un contrôle précis du processus de mise en forme. Ce dispositif est capable de générer des motifs lithographiques fins dans des tolérances serrées, assurant une adhérence sûre du motif désiré au substrat.