Occasion KARL SUSS / MICROTEC ACS 200 Gen3 #293819423 à vendre en France

KARL SUSS/MICROTEC ACS 200 Gen3 est un équipement de photorésistance qui a des capacités de lithographie automatisée avancées pour l'optimisation des processus et une plus grande flexibilité. Ce système permet l'alignement et l'exposition automatisés et précis des matériaux photorésistants pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Cette unité est conçue pour assurer un développement optique très précis et des capacités d'alignement avec une précision de huit axes. Le contrôle automatisé peut être intégré pour des processus comme l'exposition et le développement qui peuvent réduire le besoin d'entrées manuelles. Des fonctionnalités supplémentaires comme une option de nivellement automatique avec couture d'image aident à optimiser la reproductibilité des motifs nanométriques. MICROTEC ACS 200 Gen3 dispose d'un chargeur intégré de plaquettes pouvant contenir jusqu'à quatre plaquettes de 300mm, permettant le traitement en plusieurs lots. La manipulation des plaquettes est améliorée avec une optique à double faisceau, ce qui contribue à réduire les points de brûlure pendant l'exposition. Il a également un temps d'exposition aux UV programmable qui peut être ajusté en fonction de la complexité du motif en cours de développement. Le moteur d'alignement d'exposition de cette machine est assez avancé par rapport à d'autres systèmes similaires. Cela comprend un étage de plaquette 3 axes avec un outil laser réglable pour l'alignement automatisé. Il dispose également d'un algorithme d'alignement automatique et d'une technologie active de reconnaissance des fonctionnalités pour optimiser l'alignement et réduire le temps de traitement. L'interface utilisateur intégrée pour cet atout est assez intuitive et conviviale. Il dispose d'une interface utilisateur graphique simplifiée avec un moteur de flux de travail flexible qui permet à l'opérateur de programmer le modèle à leurs propres paramètres personnalisés. KARL SUSS ACS 200 Gen3 a la capacité de fonctionner à titre autonome ou d'être intégré dans un environnement de cluster. C'est une caractéristique précieuse pour permettre aux clients de déployer facilement cet équipement dans un environnement système unique ou multiple. Dans un environnement multi-unités, les utilisateurs peuvent facilement transférer des modèles entre systèmes tout en tirant parti d'une évolutivité accrue et en améliorant le développement de structures nanométriques complexes. En résumé, ACS 200 Gen3 est une machine de photorésistance avancée qui possède de nombreuses caractéristiques et capacités pour améliorer l'optimisation des processus et permettre un alignement précis et l'exposition pour la fabrication de motifs nanométriques. L'outil présente un certain nombre de caractéristiques attrayantes telles qu'un atout automatisé avec une interface utilisateur intuitive, un moteur d'alignement d'exposition multi-axes, un temps d'exposition aux UV programmable, et la capacité d'être intégré dans un environnement de modèle autonome ou multiple.