Occasion KARL SUSS / MICROTEC ACS 200 #9267343 à vendre en France

KARL SUSS/MICROTEC ACS 200 est un équipement de photorésistance utilisé principalement dans les applications de lithographie. La photorésist est un matériau sensible à la lumière utilisé en microfabrication pour former des motifs microscopiques sur les surfaces. Il est utilisé en combinaison avec une source de lumière UV, pour graver chimiquement des motifs dans un substrat choisi. MICROTEC ACS200 utilise une technologie de photolithographie avancée pour graver des motifs en toute sécurité dans des substrats. Cette méthode de photolithographie est un procédé en deux étapes faisant appel à la fois à KARL SUSS ACS-200 et à un processeur photolithographique. Tout d'abord, les plaquettes sont montées sur une plate-forme de KARL SUSS ACS 200, les exposant à une source d'exposition aux UV. Les plaquettes exposées sont ensuite placées dans le processeur photolithographique, et les couches de résine photosensible sont appliquées. Ceci assure un transfert complet du motif des plaquettes exposées dans la couche de résine photosensible. Une fois la couche de photorésist en place, un révélateur est introduit dans le système, afin de renforcer les liaisons entre la photorésist et le substrat. Le développeur durcit encore la photorésist, et améliore la résolution photolithographique. L'ACS 200 permet de contrôler avec précision les caractéristiques du motif grâce à son utilisation d'oxyde d'étain dopé au fluor. Cette unité fournit également une machine de balayage d'environnement uniforme pour surveiller l'avancement du processus et améliorer l'efficacité de fonctionnement. L'outil offre également un atout de navigation optique manuelle de haute précision, qui facilite la stigmatisation de précision du processus. En conclusion, MICROTEC ACS 200 est un modèle de photorésist fiable et sophistiqué utilisé pour graver des motifs dans des substrats. Cet équipement offre un haut degré de précision et une meilleure résolution photolithographique, et est idéal pour les applications nécessitant un contrôle précis des caractéristiques des motifs, une surveillance uniforme du processus et une efficacité de fonctionnement améliorée.