Occasion KARL SUSS / MICROTEC ACS 300 Gen2 #9356898 à vendre en France

KARL SUSS/MICROTEC ACS 300 Gen2 est un équipement de photorésistance pour la lithographie UV ou faisceau d'électrons. C'est un système complet qui est conçu pour donner une grande précision, une grande vitesse et des résultats reproductibles. L'unité est équipée d'un certain nombre de technologies différentes, lui permettant d'offrir des performances supérieures à toutes les étapes du processus de lithographie. Au cœur de la machine se trouve sa précision xy-stage. C'est un outil sophistiqué qui garantit que le substrat est toujours maintenu en place de manière sûre pendant tout le processus lithographique. L'étage xy de précision a une résolution angulaire de 1µm, ce qui le rend capable de produire des motifs alignés avec une précision nanométrique. L'étage est également équipé d'un actif sous vide motorisé qui assure un maintien ferme du substrat contre l'étage lors de la lithographie, donnant des performances supérieures pour les procédés chimiques. Le modèle est également équipé d'une variété d'optiques d'imagerie. Cela permet une répartition uniforme de l'éclairement pendant le processus d'exposition et garantit la réalisation d'un processus de balisage cohérent et reproductible. L'équipement dispose également d'un obturateur réglable qui peut être utilisé pour limiter l'entrée de la lumière parasite pendant l'exposition, assurant un processus lithographique précis et réduisant les effets de bord. Le système est capable de travailler avec une variété de résistances chimiques, y compris les résistances à action négative et les résistances à action positive. En utilisant une dose d'énergie variable, la résine peut être exposée avec précision et fiabilité aux niveaux souhaités. L'unité dispose également d'une technologie intégrée de nettoyage à sec qui réduit considérablement le temps de nettoyage post-lithographie. La machine de photorésistance MICROTEC ACS 300 Gen2 est conçue pour fournir une lithographie de haute précision avec une excellente répétabilité. Ses caractéristiques de précision xy-stage, d'optique réglable et de dose d'énergie variable le rendent idéal pour la lithographie à échelle nanométrique. Sa technologie intégrée de nettoyage à sec permet de minimiser le nettoyage post-lithographie, tandis que sa grande compatibilité avec différentes résistances chimiques le rend adapté à une variété d'applications.