Occasion KARL SUSS / MICROTEC ACS 300 #9081962 à vendre en France

KARL SUSS/MICROTEC ACS 300 est un équipement de photorésistance, conçu pour la modélisation précise et cohérente des substrats à l'aide de la photolithographie. Ce système, en particulier, est spécialisé dans la fixation de plaquettes haut de gamme. L'unité MICROTEC ACS 300 comprend une tête d'exposition OptiCAL qui est une machine très avancée qui peut exposer des substrats jusqu'à 200 mm et des plaquettes semi-conductrices jusqu'à 8 ". Cette tête d'exposition est dotée d'une optique de réduction SUSS Greentec pour assurer la production d'une image haute résolution. En outre, il est équipé d'une lentille de balayage et d'un dispositif d'autofocus laser pour assurer précision et précision lors de l'imagerie des substrats. KARL SUSS ACS 300 est également livré avec un alignement AutoEdge afin d'aligner correctement le motif lumineux sur le substrat. Cet alignement permet de s'assurer que la lumière est correctement focalisée sur la zone désirée. Il y parvient au moyen d'un microscope électronique à balayage (SEM) qui permet de détecter des désalignements mineurs du substrat. L'outil peut être utilisé pour la photolithographie de contact et de projection. Ce type de photolithographie fait appel à une source lumineuse telle qu'un laser, qui brille sur un matériau sensible à la lumière. Ceci expose des zones du substrat pour créer un motif. Ce même procédé peut être utilisé pour graver, lithographier et modeler les substrats. Enfin, l'actif photorésist ACS 300 dispose d'un modèle de nettoyage automatisé unique. Cet équipement permet de réduire les erreurs humaines, de maintenir la qualité des lentilles et de maintenir le système en état de fonctionnement optimal. Cela se fait en nettoyant et enduisant atomiquement la lentille avec un liquide spécial toutes les quelques heures. Ceci maintient la résolution et la précision de l'unité tout en évitant toute dégradation due à l'usure. En conclusion, KARL SUSS/MICROTEC ACS 300 est une machine de photorésistance très avancée qui offre une modélisation précise et cohérente des substrats. Ses caractéristiques permettent également la photolithographie de contact et de projection. Son outil de nettoyage automatisé permet de maintenir l'exactitude et la résolution de l'actif.