Occasion KARL SUSS / MICROTEC Delta 80RC #293807462 à vendre en France

KARL SUSS/MICROTEC Delta 80RC est un équipement de photorésistance de pointe idéal pour l'imagerie à haut contraste et la photolithographie sensible. Il est utilisé pour fabriquer des microns et des sous-microns sur des substrats d'épaisseurs et de composition variables, ce qui en fait un outil inestimable dans de nombreuses industries, y compris la fabrication, l'électronique et la médecine. MICROTEC Delta 80RC est livré avec une lampe UV haute puissance qui est utilisée pour projeter la lumière à travers un masque, qui à son tour masque certaines zones du substrat de l'exposition. Ceci est ensuite contrôlé à l'aide d'un étage motorisé à haute résolution, offrant aux utilisateurs un contrôle précis de l'exposition et de l'alignement. KARL SUSS Delta 80RC comprend également un microscope réglable pour affiner l'alignement. Le système photorésist est compatible avec une grande variété de substrats dont des films de verre, de silicium et de polymère. Sa haute résolution d'imagerie de 15 µm garantit que la fonction résultante sera aussi petite que le motif du masque, permettant de créer des caractéristiques extrêmement petites avec précision. L'unité utilise une variété de photorésistes positifs et négatifs qui sont appliqués sur le substrat, puis exposés à la lumière. La machine photorésist est également capable de réaliser des impressions de contact, des photorésists d'épaisseurs différentes, et des profondeurs de gravure variables. L'outil est contrôlable par des options manuelles et automatiques, ce qui permet aux utilisateurs de mieux contrôler le processus d'exposition et d'imagerie. De plus, Delta 80RC est équipé de multiples dispositifs de sécurité qui aident à protéger l'utilisateur et le substrat contre les risques potentiels associés à l'exposition aux photorésistances. KARL SUSS/MICROTEC Delta 80RC est un équipement essentiel qui permet une imagerie et une fabrication précises pour une grande variété de projets. Sa compatibilité avec une variété de substrats, une haute résolution d'imagerie et des caractéristiques de sécurité en font l'un des systèmes photorésistants les plus avancés disponibles aujourd'hui.