Occasion KARL SUSS / MICROTEC Delta 80T2 #293590415 à vendre en France

KARL SUSS/MICROTEC Delta 80T2 est un équipement de photorésistance conçu pour permettre une planétisation, une gravure et une imagerie précises des films minces. Il s'agit d'un système de haute précision adapté à la production de circuits intégrés haute densité (CI), de semi-conducteurs composés, de MEMS, de systèmes optiques et de dispositifs micro-électromécaniques (MEMS). L'unité dispose d'une machine de surveillance de pointe qui utilise des caméras haute résolution, des lumières stroboscopiques et un détecteur CCD pour assurer un contrôle précis des processus de gravure et d'imagerie. Il dispose également d'un outil de chargement à grande vitesse avec jusqu'à 160 plaquettes par cycle, un atout de mouvement horizontal 12 axes et un modèle optique multi-ouvertures. MICROTEC Delta 80T2 utilise une lampe au xénon de haute puissance avec un cycle de réchauffement doux et un embrayage précis, ainsi qu'une unité de commande de recette avancée avec un timing précis ainsi que des fonctionnalités avancées telles que l'obturateur de fond automatique, la mesure de film in situ, et le réglage fin de l'axe XY pour une commande de rétrocombustion précise du CD-SEM. Il dispose d'un large éventail de capacités de contrôle automatique des processus, des commandes automatiques d'exposition et de contrôle CD au contrôle CD, en passant par le contrôle de l'amélioration de l'image, une suite d'outils de surveillance CD-SEM in situ et un équipement de manutention d'échantillons à température contrôlée. Il contient également une gamme de fonctions de sécurité comprenant, sans s'y limiter, un interrupteur de sécurité sur banc mouillé et un système complet de contrôle du panache de gravure. KARL SUSS Delta 80T2 est une unité de photorésistance polyvalente capable d'obtenir des images haute résolution et une cohérence de processus élevée grâce à ses contrôles précis et une grande précision. Ses performances de gravure supérieures réduisent les coûts généraux du procédé et les pertes de rendement des plaquettes au minimum. Avec ses systèmes intégrés de protection contre les pannes, il peut produire une large gamme de caractéristiques nanométriques et des densités de pas adaptées à diverses applications.