Occasion KARL SUSS / MICROTEC Falcon #293652799 à vendre en France

KARL SUSS/MICROTEC Falcon est un équipement haute performance photorésist (PR) conçu pour fournir des fonctionnalités avancées pour la production de photomasques et de dispositifs semi-conducteurs. Le système est équipé d'une grande tête de revêtement flottante sous vide capable de revêtir jusqu'à trois résistances différentes sur un seul substrat, y compris des photorésistes à film sec, des photorésistes filés et des résistances à la lithographie liquide. L'unité de chauffage souterraine assure un contrôle uniforme de la température et des revêtements de résistance très uniformes. Les expositions à haute résolution sont réalisées par l'alignement d'un interféromètre laser sur l'axe optique de la machine. Le plan détecteur peut être réglé à moins de 5 microns de l'axe optique. Le contrôle de l'étage du substrat d'exposition en boucle fermée assure des processus de lithographie hautement reproductibles. L'outil est également capable de manipuler des emplacements compliqués et des rapports d'aspect élevés qui sont essentiels pour la lithographie avancée. L'actif fournit une imagerie optimale par alignement simultané du photomasque et du substrat, permettant un alignement critique des motifs sur le substrat avec des décalages de position minimes. Cette caractéristique assure une impression précise des caractéristiques sur le substrat avec une grande précision. MICROTEC Falcon est un modèle très polyvalent avec un logiciel convivial pour un équipement facile à configurer. Il permet des processus de lithographie en une seule étape, éliminant le besoin de plusieurs étapes telles que la pré-imagerie avant les expositions réelles. Cette fonctionnalité permet de gagner du temps et d'augmenter le débit de production. Le logiciel de pointe inclus dans le système comprend des fonctionnalités telles que prescan à plusieurs niveaux, l'optimisation de la résistance à plusieurs étapes, la correction avancée du masque, la reconnaissance adaptative des motifs ainsi que la mise en place d'une lithographie étape et répétition. L'unité est également capable de répondre à des besoins d'impression avancés. Il comprend des caractéristiques spéciales telles que la génération d'échelle de gris optique et le biais arrière réglable de film pour les expositions binaires et les masques de déphasage. Cette fonctionnalité offre une grande variété de combinaisons de traitement pour différentes applications. KARL SUSS Falcon est une machine de photorésistance avancée qui fournit une large gamme de caractéristiques pour la production de masques et d'appareils. Il fournit des procédés de lithographie précis et reproductibles pour l'impression précise de motifs et expose une large gamme de types de photomasques. Avec son logiciel avancé et son contrôle précis, cet outil est un excellent choix pour le traitement avancé des substrats.