Occasion KARL SUSS / MICROTEC Falcon #9215560 à vendre en France
URL copiée avec succès !
Appuyez sur pour zoomer
ID: 9215560
Taille de la plaquette: 8"
PI Coater, 8"
Operating system: Windows XP
I/O Robot movement: I/O Module
User interface:
Tri-color lamp tower
Audible alarm
Keyboard
Trackball
Wafer handling:
(4) Cassettes (Input port)
Handling robot
Pre-aligner
Coating module:
Arm movement
Chuck spin
Lift pin movement
Weight scale
Chemical dispense
Lift pin movement:
Temperature module
Cooling module
Utility:
N2: 3.5 bar
CDA: 4 bar
Vacuum
Power:
3 x 400 V
+6% - 10 %
+N + PE 50 Hz.
KARL SUSS/MICROTEC Falcon est un équipement de photorésistance avancé qui permet aux utilisateurs de créer des structures micrométriques sur leurs prototypes. Cette technologie photolithographique ultra-précise est capable de produire des caractéristiques de haute résolution qui sont jusqu'à 0,4 micromètre de taille, ainsi que jusqu'à 50 microns d'épaisseur. Le système avancé de MICROTEC Falcon comprend de nombreuses fonctionnalités telles qu'une unité d'impression photo haute résolution, un collecteur de puissance, un étage de support chauffé, une machine de mise à niveau et un outil aligné sur masque. L'outil d'impression photo inclus permet aux utilisateurs de réaliser des images précises et à haute résolution, jusqu'à 0,4 micron de taille. Le collecteur de puissance est un dispositif intégré qui aide à s'assurer que les niveaux d'exposition et de développement demeurent uniformes tout au long du processus. Le modèle comprend également un étage de support chauffé intégré, qui assure des motifs de qualité optimale et minimise la distorsion d'image. De plus, l'équipement de mise à niveau permet à l'utilisateur de régler l'alignement des éléments de masque sur la surface de l'échantillon. Enfin, le système aligné sur le masque permet de s'assurer que les éléments du masque restent bien alignés sur la surface de l'échantillon. En plus de ses capacités photorésistantes, KARL SUSS Falcon est également capable de graver et de métalliser des motifs sur des substrats. Cela permet à l'utilisateur de transférer ses motifs sur une variété de surfaces, y compris le verre, les rubans ou la tôle, pour une grande variété d'applications. Les procédés de gravure et de métallisation sont souvent utilisés en combinaison avec la lithographie pour créer des structures tridimensionnelles sur les substrats. Falcon est une unité de photolithographie avancée qui est idéale pour la création précise de structures à l'échelle de microns. Ses caractéristiques, y compris l'impression photo haute résolution, un collecteur de puissance, un étage de support chauffé, une machine de mise en scène et un outil aligné sur masque, permettent aux utilisateurs d'obtenir des modèles de qualité optimale avec une distorsion minimale. Ses capacités s'étendent au-delà de la photorésist avec la possibilité de graver et de métalliser des motifs sur divers substrats, pour une grande variété d'applications.
Il n'y a pas encore de critiques