Occasion KARL SUSS / MICROTEC Gamma 4M #293601750 à vendre en France

KARL SUSS/MICROTEC Gamma 4M est un équipement de photorésistance conçu pour le développement précis et précis des photorésistes. C'est un système de photolithographie compact et robuste qui peut répondre aux exigences exigeantes de la nanofabrication moderne et des applications optoélectroniques. MICROTEC Gamma 4M se compose d'un laser excimère, d'un générateur de gabarit, d'un générateur de motifs, d'un étage orthogonal, d'un aligneur de masque et d'une unité de dosage. Le laser excimère est basé sur MICROTEC dernière plate-forme laser et dispose d'une machine de contrôle de longueur d'onde de pointe, fournissant la plus grande répétabilité et précision pendant l'exposition. Le profil de faisceau du laser est conçu pour exposer uniformément des structures de résistance uniformes en très peu de temps. Le générateur de gabarit utilise un LCD haute résolution pour permettre des modèles de masques avancés tels que SU-8, AZ-5214 et des structures d'intégration avancées. Le LCD est optimisé pour une profondeur de mise au point faible mais très précise qui permet des niveaux de résolution de pointe. Le générateur de motifs utilise un outil d'écriture laser spécialement conçu pour le dépôt de structures de haute précision et de sous-microns pour la photolithographie. L'étage orthogonal permet un alignement précis et précis du Masque Aligner et du générateur de motifs. Le Masque Aligner offre la plus haute résolution possible pendant le développement et dispose d'un design de haute précision, réglable en hauteur qui permet une exposition égale sur des zones entières de la résine photosensible. Enfin, l'actif de mesure garantit que tous les paramètres de KARL SUSS Gamma 4M sont conformes aux normes et spécifications requises. Le modèle Gamma 4M offre l'un des procédés photorésistants les plus avancés disponibles sur le marché aujourd'hui. C'est un choix idéal pour les laboratoires professionnels de nanofabrication et d'optoélectronique ainsi que pour les institutions de recherche et de développement. En offrant des fonctionnalités telles qu'un équipement d'écriture laser haute résolution, un écran LCD avancé et un Masque Alignable réglable en hauteur, KARL SUSS/MICROTEC Gamma 4M est l'un des systèmes photorésist les plus fiables et précis disponibles aujourd'hui.