Occasion KARL SUSS / MICROTEC Gamma 4M #293831196 à vendre en France

KARL SUSS/MICROTEC Gamma 4M est un équipement de photorésistance conçu pour des processus de photolithographie précis et précis. Ce système permet aux utilisateurs de modeler les surfaces avec des niveaux de résolution micron et sub-micron. MICROTEC Gamma 4M dispose d'un étage automatisé commandé par ordinateur à 6 axes, permettant un positionnement précis du substrat par rapport à l'optique d'addition/réalisation de la pièce. L'unité contient également une machine d'éclairage UV, permettant une intensité lumineuse uniforme. Cette exposition à la lumière, basée sur des paramètres prédéfinis, grave les motifs nécessaires sur le substrat. KARL SUSS Gamma 4M contient également un outil automatisé de détection de proximité et de focalisation. Cet atout assure que le substrat est toujours en position optimale par rapport à l'optique de balisage, assurant le plus haut degré de précision pour le processus de photolithographie. De plus, Gamma 4M dispose d'un modèle de protection thermique intégré qui permet aux utilisateurs de maintenir des températures de travail adéquates sur l'ensemble du substrat. En raison de ses capacités de façonnage de surface précises, KARL SUSS/MICROTEC Gamma 4M est un outil idéal pour des applications telles que la manipulation de plaquettes, le masquage et le développement de lithographie en écriture directe. Cet équipement est très compatible avec une variété de substrats durs, y compris les plaquettes de silicium, le quartz, la céramique et le saphir. MICROTEC Gamma 4M permet aux utilisateurs d'appliquer des motifs complexes sur des échantillons courbes, plats ou pliés, permettant une grande flexibilité dans l'application de la conception souhaitée. Compte tenu de ses diverses capacités, KARL SUSS Gamma 4M offre une large gamme de fonctionnalités pour répondre aux besoins de nombreuses applications. Il est compatible avec une variété de matériaux tels que PMMA, polyimide, SU-8 et photorésist. Gamma 4M est également un outil de photolithographie très précis et efficace en raison de son intégration d'un système d'exposition laser, d'alignement automatisé et d'unité de détection et de correction de focalisation automatisée. Dans l'ensemble, KARL SUSS/MICROTEC Gamma 4M est une excellente machine photorésiste conçue pour faciliter les processus de photolithographie de précision. Il est capable de produire une variété de motifs sur des substrats durs de formes et de tailles variables, offrant flexibilité et précision pour de nombreuses applications. Les systèmes automatisés de positionnement et de protection thermique assurent des conditions de travail optimales pour l'utilisateur, tandis que l'outil d'exposition laser et les moyens automatisés de détection et de correction des foyers assurent une précision et une résolution inégalées pour le processus de photolithographie.