Occasion KARL SUSS / MICROTEC Gamma 60 #9165079 à vendre en France

L'équipement de photorésistance KARL SUSS/MICROTEC Gamma 60 est un aligneur de masque utilisé dans divers procédés de lithographie. MICROTEC Gamma 60 gère différentes tailles et épaisseur de substrat avec sa table réglable et de haute précision. Le système est équipé d'un moteur pas à pas avancé pour le positionnement précis du substrat. Il présente une répétabilité de 5 μ m et une vitesse maximale de 120 pas par seconde. La zone de travail est conçue pour l'exposition de substrats de grande taille, tels que des plaquettes et des substrats, jusqu'à 4 pouces de diamètre. KARL SUSS Gamma 60 dispose d'un étage avancé pour l'alignement précis des photomasques et des substrats. Son excellente stabilité mécanique permet une grande durée d'exposition, et garantit également un positionnement de haute précision des réseaux de diffraction, assurant ainsi une lithographie de qualité. La machine de lithographie avancée dispose de capacités d'exposition contrôlées par microprocesseur. Gamma 60 est un outil tout-en-un qui offre une efficacité supérieure en combinant photorésist, cuisson, exposition aux inondations et fonctions de contact. Le modèle d'éclairage d'exposition de l'actif est équipé d'un positionnement continu, asynchrone et automatique de la source lumineuse, pour assurer une exposition uniforme. En outre, KARL SUSS/MICROTEC Gamma 60 dispose de fonctionnalités avancées telles qu'un générateur de motifs de haute précision, qui permet à l'utilisateur de numériser une variété de substrats, y compris différents types de photomasques, réseaux de diffraction, cartes de résolution et autres objets utilisés pour la lithographie. MICROTEC Gamma 60 est un aligneur de masque de précision efficace conçu pour les processus de lithographie. Ses capacités d'exposition contrôlées par microprocesseur, son équipement d'étage réglable et son générateur de motifs évolués offrent une précision et une fiabilité supérieures. KARL SUSS Gamma 60 est équipé d'un moteur pas à pas très fiable et précis et d'une large gamme de sources lumineuses d'exposition, permettant ainsi un processus de lithographie de haute précision qui produit des résultats de qualité.