Occasion KARL SUSS / MICROTEC Gamma #293605209 à vendre en France

ID: 293605209
Style Vintage: 2012
Spin coater Developer module (2) Spray coater modules (2) HMDS Chambers (2) Cool plates Hotplate Does not include spin coater module 2012 vintage.
KARL SUSS/MICROTEC Gamma est un équipement de photorésistance conçu pour supporter des applications avancées en microfabrication, lithographie et optique. Il se compose d'une variété de composants, tels qu'une source de rayonnement UV, une table optique, et un système de positionnement de précision, qui fournissent un environnement adapté à la production de micro et nano-structures. La source de lumière UV a une intensité et une longueur d'onde finement ajustables avec une gamme spectrale de 100nm à 500nm. Il fournit jusqu'à 350mW/cm2 pour réduire le temps d'exposition et obtenir des profils de résolution plus élevés. Cette source est adaptée aux matériaux photolithographiques résistifs et non résistifs, ce qui permet une large gamme de possibilités d'application. La table optique est constituée d'une structure en aluminium ou en acier avec une grande surface, découpée au laser à une planéité inférieure à 1 µm permettant un positionnement extrêmement précis des composants optiques lors des opérations photolithographiques. Il est monté sur une base en acier réglable supportant jusqu'à 200kg, offrant ainsi une meilleure stabilité pendant les temps d'exposition. L'unité de positionnement de précision est composée de deux micromètres de haute précision, chacun avec une plage de mouvement de 5mm. En contrôlant le mouvement de chaque micromètre de manière indépendante, on peut réaliser une variété de micro et nano-structures avec un positionnement très précis. MICROTEC Gamma comprend également une variété d'accessoires supplémentaires pour faciliter les processus de production. Il s'agit d'une plaque de base et d'un cadre de fixation du photomasque, d'une étape d'alignement du substrat et du masque, d'un mandrin à vide et d'une étape mobile de recherche. Dans l'ensemble, KARL SUSS Gamma fournit certainement un environnement bien adapté pour produire des micro et nano-structures avec précision jusqu'au niveau du nanomètre. Ses techniques optiquement stables, ses temps d'exposition rapides et divers accessoires en font une machine adaptée aux applications avancées de photolithographie.
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