Occasion KARL SUSS / MICROTEC Gamma #293745275 à vendre en France

KARL SUSS/MICROTEC Gamma est un équipement de photorésistance qui est utilisé pour développer des motifs fins sur diverses surfaces. Le système photorésist est composé de trois composants majeurs : l'étage de plaquette, le porte-masque et l'unité d'éclairage. L'étage de plaquette est ce qui retient la surface à modeler. Il s'agit d'un moteur pas à pas très précis qui est utilisé pour déplacer avec précision la surface dans les directions X, Y et Z. Le porte-masque est monté sur l'étage de plaquette et maintient la photomasque. Le photomasque est utilisé pour transférer le motif du masque sur la surface. La machine d'éclairage est constituée d'une puissante source UV, typiquement une lampe à arc de mercure, qui est utilisée pour faire briller la lumière à travers le masque afin d'exposer la résine photosensible. MICROTEC Gamma est un outil très précis et capable de produire constamment des motifs fins à haute résolution. Il fonctionne en mode wafer permanent qui maintient une distance de surface constante et une distance d'exposition entre la source d'exposition et la surface exposée. L'étage de plaquette a une résolution positionnelle d'un micron et une répétabilité de +/- 0,005 microns permettant un positionnement plus précis du motif. De plus, le porte-masque est capable d'avoir des angles de 0 à 20 degrés par paliers de 0,1 degrés, éliminant toute distorsion des motifs due aux différences angulaires. KARL SUSS Gamma peut être utilisé en combinaison avec une grande variété de photorésistes, y compris des photorésistes positifs et négatifs ainsi que des résines épaisses. Cet actif photorésist utilise une approche d'exposition en deux étapes qui signifie que le motif exposé est précis à des détails plus fins et extrêmement uniforme dans la zone sans encoche ou ombrage. En outre, grâce à son modèle de positionnement précis X, Y, Z, cet équipement peut être utilisé pour modeler plusieurs couches à différentes technologies et différentes caractéristiques, telles que des lignes de résistance aussi minces que 50nm. Gamma est le système de photorésistance idéal pour développer des modèles submicroniques, monocouches et multicouches sur une variété de substrats. Sa conception robuste, sa grande précision et sa répétabilité le rendent idéal pour la recherche, le développement et la production de modèles complexes dans le domaine de la nanoélectronique.