Occasion KARL SUSS / MICROTEC Gamma #9284546 à vendre en France

KARL SUSS/MICROTEC Gamma est un équipement de photorésistance à double faisceau conçu pour des applications de micro-structuration de haute précision. Il est capable de structurer lithographiquement des substrats jusqu'à 200mm de diamètre, avec une résolution jusqu'à quelques nanomètres. MICROTEC Gamma utilise des optiques pas à pas à haute résolution pour produire des photomasques avec une très grande fidélité et une très faible distorsion. KARL SUSS Gamma est composé de deux systèmes de faisceaux d'électrons, d'un générateur de photomasques et d'un système d'exposition. Le générateur de photomasques utilise un faisceau d'électrons pour dessiner des caractéristiques sur un photomasque. La résolution des caractéristiques tracées est déterminée par l'énergie du faisceau, la taille du faisceau et la densité de courant du faisceau. Ce photomasque est ensuite utilisé pour générer un masque chrome sur verre qui est modelé par un procédé de gravure humide. L'unité d'exposition travaille en faisant passer un faisceau de lumière ultraviolette focalisée à travers la photomasque pour exposer la surface du substrat. Cette lumière est très précisément modulée par focalisation ou défocalisation du faisceau, ce qui permet une définition très détaillée de la caractéristique. L'intensité de la lumière est déterminée par la puissance du faisceau, qui est réglable en vitesse. Une fois exposé, le substrat est développé dans une solution classique de développement à base de résiste. Toutes les caractéristiques et les motifs sur le photomasque seront reproduits sur le substrat à la suite de ce processus de développement. Gamma présente de multiples avantages, dont la répétabilité, la résolution et des caractéristiques uniques. Sa technologie de faisceau d'électrons augmente la précision et la répétabilité en contrôlant le placement et la forme de chaque caractéristique sur le substrat. L'optique haute résolution de la machine permet des fonctionnalités de résolution inférieure à 10nm, permettant des applications avancées. D'autres caractéristiques incluent des technologies avancées de coin et de pente, qui permettent de fabriquer des coins de photomasque parfaitement lisses et des pentes optimisées, augmentant considérablement le rendement et améliorant la fidélité des caractéristiques. Dans l'ensemble, KARL SUSS/MICROTEC Gamma photoresist outil est un outil puissant et précis pour les processus de lithographie. La combinaison de son optimisation avancée du faisceau d'électrons, d'une optique haute résolution et d'un développement robuste permet des applications de micro-structuration et de structuration de pointe.