Occasion KARL SUSS / MICROTEC Gamma #9384738 à vendre en France

L'équipement de photorésistance KARL SUSS/MICROTEC Gamma est une solution de haute précision pour le développement et la gravure de substrats semi-conducteurs avancés. Il s'agit d'un système de lithographie de niveau pas à pas capable de traiter de façon fiable et cohérente des photorésist de tout type, y compris les derniers photorésists avancés amplifiés par des produits chimiques (CAPR). Cette unité utilise un étage de microscope à 6 axes croisés avec des codeurs à haute résolution qui fournissent un alignement précis et fiable, un mouvement d'étage, un alignement multicouche et des capacités de nanoprocessage. Cette machine de niveau pas à pas est capable de fonctions d'imagerie allant de 1-500nm et supporte plusieurs techniques avancées de gravure et de gravure. MICROTEC Gamma permet une photolithographie de haute précision sur une variété de substrats semi-conducteurs, y compris les matériaux fragiles III-V. L'outil est équipé d'une fonction « production et libération » en 4 étapes pour le développement rapide et facile de motifs de résines photosensibles. Son étage XY avancé et son actif d'exposition sont capables de programmer des motifs denses avec une grande fidélité. Le modèle est également équipé d'une large gamme d'autres fonctionnalités, y compris la capacité à réaliser un balayage à haute résolution dans un court laps de temps, le contrôle des caractéristiques de subventionnement, et la détermination aléatoire pour des applications précises d'imagerie thermique. KARL SUSS Gamma comprend également une multitude de fonctionnalités pour l'alignement précis et le contrôle des processus, y compris l'alignement continu en temps réel et les ouvertures fines pour le contrôle de l'exposition fine. Le contrôleur de l'équipement est capable de conduire jusqu'à 16 empilements multicouches avec des résultats fiables. Il comprend également une variété d'options de grossissement, de 2x à 300x, ainsi qu'un puissant système optique spécial pour l'examen précis des matériaux clairs et opaques. De plus, l'alignement des plaquettes de haute précision est rendu possible grâce aux techniques de corrélation automatisées et aux fonctionnalités de carrelage. En plus des fonctionnalités avancées mentionnées ci-dessus, l'unité de photorésistance Gamma offre des caractéristiques de sécurité supérieures. Il utilise des systèmes de vérification de motifs à 8 canaux pour se protéger contre les shorts et les rayures, ainsi qu'une machine de gravure à interface complète pour un contrôle de gravure précis. L'équipement avancé de filtration d'air de l'outil assure un environnement de travail propre, et le régulateur de température reproduit à la fois les conditions de processus et l'environnement. Globalement, le modèle photorésist KARL SUSS/MICROTEC Gamma est une solution puissante pour le traitement des semi-conducteurs. Avec ses caractéristiques de haute précision et ses mécanismes de sécurité avancés, il peut développer avec fiabilité et précision des motifs photorésistants avec une excellente répétabilité et reproductibilité. Bien sûr, cet équipement a un coût - mais pour ceux qui ont de sérieux besoins en lithographie, il peut en valoir la peine.