Occasion KARL SUSS / MICROTEC JWS LTC #9289946 à vendre en France

KARL SUSS/MICROTEC JWS LTC est un équipement avancé de traitement de la photorésistance utilisé dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Le système offre une gamme complète de caractéristiques et de fonctions pour la lithographie, la gravure et le nettoyage de la couche de résiste. L'unité utilise un substrat enduit de résine monté dans un gabarit exposé à la lumière ultra violette (UV). Cette lumière décompose les molécules solubles de résistance, exposant la surface sous-jacente à l'agent de gravure. Au cours de ce processus, les régions exposées ou « ombragées » accepteront le graveur tandis que les régions exposées ou « lumineuses » resteront inchangées. La machine offre un contrôle précis des paramètres d'exposition et est conçue pour fonctionner avec le plus large éventail de résistances. Son contrôle précis de la dose d'exposition, de la taille du spot et du pas d'exposition garantit des résultats précis, quel que soit le type de résistance traité. En plus d'un contrôle précis des paramètres d'exposition, l'outil comprend un atout d'imagerie haute résolution qui permet une focalisation optimale ainsi que le maintien de profils précis sur de grandes surfaces. Cela signifie une meilleure qualité d'image et un contrôle précis de la surface de résistance. Le modèle dispose également d'une station de gravure dédiée pour le contrôle précis des paramètres de gravure. Cela garantit des temps de gravure et des profils cohérents et prévisibles pour chaque application. L'équipement est également conçu pour intégrer des protocoles de nettoyage robustes pour la post-gravure. Cela permet un rendement optimal du procédé. Enfin, le système comprend une unité de surveillance qui permet une surveillance continue de la température du substrat pendant l'exposition, la cuisson après exposition, la gravure et le nettoyage. Cette surveillance en temps réel assure un contrôle optimal des processus et des performances. Dans l'ensemble, MICROTEC JWS LTC est une machine de traitement de photorésistance avancée conçue pour fournir des résultats précis de lithographie et de gravure dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. L'outil offre un contrôle précis des paramètres d'exposition, une imagerie haute résolution, une station de gravure, des protocoles de nettoyage robustes et une surveillance en temps réel.