Occasion KARL SUSS / MICROTEC MC 8 / MS 3 #293725372 à vendre en France

ID: 293725372
Spin coater.
KARL SUSS/MICROTEC MC 8/MS 3 est un équipement de photorésistance de pointe conçu pour des applications de microlithographie haute performance dans les industries des semi-conducteurs et de la microélectronique. Ce système de pointe intègre des technologies de pointe pour permettre la fixation de précision et le traitement de matériaux photorésistants sur des substrats avec une précision et une répétabilité inégalées. Au cœur de l'unité MICROTEC MC 8/MS 3 se trouve un module d'exposition sophistiqué qui utilise des composants optiques avancés et des mécanismes d'alignement précis pour fournir un éclairage uniforme et contrôlé des substrats recouverts de photorésist. La machine est équipée d'optiques haute résolution, y compris des lentilles avancées et des miroirs, qui permettent la projection de motifs complexes sur la photorésist avec une résolution sous-micron. L'outil KARL SUSS MC 8/MS 3 dispose d'un étage motorisé avec des capacités de commande de mouvement multi-axes, permettant un positionnement et un alignement précis des substrats pendant le processus d'exposition. Cela permet à l'actif d'atteindre des niveaux élevés de précision de recouvrement, critiques pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs complexes et de microstructures. En plus de ses capacités d'exposition avancées, le modèle MC 8/MS 3 est équipé d'un ensemble complet de fonctionnalités pour le traitement et le développement de résines photosensibles. L'équipement comprend des modules intégrés pour le revêtement photorésist, la cuisson et le développement, fournissant une solution complète pour la fabrication de motifs microscaliques sur des substrats. Le module de revêtement photorésist du système utilise la technologie de pointe de spin-coating pour obtenir un dépôt uniforme et cohérent de matériaux photorésist sur les substrats. L'unité est capable de contrôler des paramètres clés tels que la vitesse de rotation, l'accélération et le temps pour assurer un contrôle précis de l'épaisseur et de l'uniformité de la couche de résine photosensible. Le module de cuisson de la machine KARL SUSS/MICROTEC MC 8/MS 3 est conçu pour optimiser les propriétés de durcissement et d'adhérence de la couche de résine photosensible. En contrôlant les conditions de température, de temps et d'atmosphère pendant le processus de cuisson, l'outil peut obtenir des résultats optimaux en termes de qualité et de stabilité du film. Le module de développement de la photorésist de l'actif utilise des procédés chimiques avancés pour dissoudre sélectivement et éliminer les régions exposées ou non exposées de la couche de photorésist, définissant le motif final sur le substrat. Le modèle est équipé de mécanismes de contrôle précis pour la concentration du développeur, la température et le temps d'immersion, permettant d'affiner le processus de développement pour obtenir des motifs à haute résolution avec des parois latérales lisses et des défauts minimes. Dans l'ensemble, l'équipement de photorésistance MICROTEC MC 8/MS 3 représente une solution de pointe pour des applications de microlithographie de haute précision dans les industries des semi-conducteurs et de la microélectronique. Avec ses capacités d'exposition avancées, ses modules de traitement intégrés et ses mécanismes de contrôle précis, le système permet aux chercheurs et aux fabricants d'atteindre des niveaux de précision et de cohérence sans précédent dans la fabrication de structures et d'appareils microscaliques.
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