Occasion KARL SUSS / MICROTEC RC 16 (RC5) #9383649 à vendre en France

MICROTEC RC16 (RC5) est un équipement de photorésistance utilisé pour la fixation de microstructures physiques en couches minces. Ce système photorésist dispose d'un aligneur de motifs in situ pour créer des motifs de microstructure définis sur des couches allant de plusieurs microns à des dizaines de nanomètres. L'unité photorésist est conçue pour fournir une grande précision et répétabilité, permettant des résultats reproductibles. La précision d'alignement du motif est de 0,3 micron sur un champ de puce de 75mm et sa résolution d'imagerie est de 1 micron. La répétabilité de la sortie est de 0,3 micron, et la machine est capable de mesurer des échantillons dont la taille varie entre 0,1 et 8 microns. L'épaisseur de la couche de résine photosensible de l'outil se situe entre 20 et 180 nm et est contrôlée par un obturateur de précision intégré à l'actif. KARL SUSS RC16 (RC5) comprend également des fonctionnalités de traitement par lots pour répondre aux besoins des applications à haut débit. L'équipement comprend un modèle de vision descendante qui peut acquérir jusqu'à 25 images de microstructures à la fois et une base de données intégrée pour stocker les images acquises. En outre, la cartographie ponctuelle automatisée et l'exposition globale sont incluses pour plus d'efficacité et de précision. KARL SUSS/MICROTEC RC16 (RC5) permet le développement de tonalités positives et négatives avec un agent de libération neutre. L'équipement offre quatre méthodes de développement ; développement humide, développement de solvants, développement sec et cuisson après exposition. Le système photorésist est stable à des températures allant de 4 à 40 degrés celsius et il est conçu pour minimiser la contamination et le bruit afin d'assurer des résultats cohérents et reproductibles. En résumé, MICROTEC RC16 (RC5) est une unité de photorésistance qui est utilisée pour tracer des motifs physiques de microstructure avec une précision et une précision. Ses caractéristiques permettent de régler la couche de résine photosensible et sa répétabilité, et la machine offre des fonctionnalités de traitement par lots pour les applications à haut débit. En outre, il offre un développement à la fois positif et négatif du ton, avec quatre méthodes de développement disponibles, ainsi qu'une stabilité de température non contaminante.