Occasion KARL SUSS / MICROTEC RC 8 MS3 #26117 à vendre en France
URL copiée avec succès !
Appuyez sur pour zoomer
ID: 26117
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1999
Spin coater, 8"
With GYRSET system
Max substrate size: 6"x6" or 200mm diagonal
Multiple dispense capability: Up to 2 photoresist, nitrogen, solvent line
Maximum RPM: 3,000
Acceleration: 10 to 5,000 RPM/sec
Motorized dispense arm
(2) CYBOR 5026 pump (05026-60-57-52C6-OP-C6-OK)
CYBOR 512 Power supply with 505 controller (will control 1-2 pumps)
CYBOR 5126C Pump
GYRSET system for better uniformity, lower resin consumption
Stainless base cabinet
Resist nozzle autoclean
Cartridge dispense
Bake (hot plate) unit: No
1999 vintage.
KARL SUSS/MICROTEC RC 8 MS3 est un équipement de photorésistance avec un design modulaire pour la plus grande précision et la plus grande répétabilité. Le système dispose d'un mouvement d'étage en boucle fermée, permettant un positionnement précis et la manipulation d'une variété de substrats jusqu'à 200 mm. Son organe d'actionnement motorisé permet une stabilité à long terme. De plus, son axe Z réglable permet des variations de hauteur de substrat pour les processus de bossage et de lithographie. La machine dispose d'une lampe à arc Xe haute performance refroidie à l'air avec un temps d'échauffement court et un fonctionnement à faible vibration. Sa lentille de condenseur spécialement conçue a un grand angle FWHM qui permet un éclairage uniforme du substrat. Le microscope haute résolution de l'outil avec une plage de grossissement de 7x à 100x et optique télécentrique, fournit un alignement précis des masques. Le contrôle de processus avancé, avec un écran de tranche à quantité, est disponible et contrôlé par l'utilisateur, fournissant une surveillance en temps réel de l'alignement de la photomasque et de la plaquette. La section de métrologie avancée avec sa tête d'univision optique très sensible offre une surveillance avancée des processus, tandis que la vitesse de balayage programmable par logiciel compense la diaphonie entre la sortie de la lampe UV et l'exposition du photorésist. La station de mixage à résistance intégrée de l'actif et les fonctionnalités électroniques entièrement automatisées résistent au mixage, à la distribution et au contrôle des performances de spin-coat. MICROTEC RC 8 MS3 dispose également d'une unité de décharge automatique pour le retrait automatique et sûr de la résistance photosensible de la piste et dispose de capacités d'alignement automatique pour faciliter la manipulation de différents substrats. En outre, le modèle dispose de dispositifs de sécurité laser et de capacités de surveillance de la température pour assurer des conditions de fonctionnement sûres et fiables. KARL SUSS RC 8 MS 3 est également conforme aux normes internationales et aux exigences environnementales, ce qui le rend bien adapté à la plupart des applications photorésistantes.
Il n'y a pas encore de critiques